GVC-2000T 高真空磁控離子濺射儀

具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱 北京格微儀器有限公司
品牌 其他品牌
型號 GVC-2000T
產地
廠商性質 生產廠家
更新時間 2024/6/3 14:10:33
訪問次數(shù) 3026

產品標簽

離子濺射儀離子濺射儀價格控離子濺射儀

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　　北京格微儀器有限公司長期致力于打造以用戶體驗為中心的材料表征領域、材料表面改性等儀器設備研發(fā)制造，產品包括：磁控離子濺射儀，高真空磁控離子濺射儀，手套箱鍍電極制備鍍膜儀，微納器件制備鍍膜儀，高真空鍍碳儀。公司總部位于北京海淀中關村，有多名多年從事真空技術、電子光學、離子光學、表面物理、材料制備等技術人員聯(lián)合發(fā)起，團隊全部為碩士以上學歷或高級職稱，具備專業(yè)的表面分析、結構分析、原位分析等應用經驗，在科研、產業(yè)等領域，沉浸多年，具備獨立設計、項目承擔、生產制造等綜合能力。當前聚焦于具有自主知識產權并具備國際競爭力的電子顯微鏡樣品制備設備，并在眾多高校院所和產業(yè)單位得到青睞。

展開

離子濺射儀、熱蒸發(fā)鍍碳儀

詳細信息 在線詢價

產地類別	國產	價格區(qū)間	面議
應用領域	環(huán)保,能源,電子,電氣,綜合	濺射電壓	300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流	0-200mA連續(xù)可調,步長10mA	濺射時間	0-9999s,?連續(xù)可調步長1s
樣品臺直徑	≥90mm	真空室	高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ170×130mm

沒有熱損傷，效率更高，顆粒度更細，更適合高分辨電鏡。
高真空磁控離子濺射儀應用領域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備（實際放大倍數(shù)≥100K）。
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。

設備配置與技術參數(shù)

名稱&型號	高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T
真空系統(tǒng)	渦輪分子泵（進口）：德國萊寶90i （單磁懸浮分子泵，抽速為90L/s）旋片式真空泵：浙江飛越VRD-4 （抽速為 1 .1L/s）
真空測量	全量程復合真空規(guī)（進口）：丹麥Sens4 VPM-5 量程范圍:1.0E5Pa-1E-4Pa
系統(tǒng)極限真空	≤5E-3Pa
濺射電源	磁控濺射電源,最大功率150W
可用靶材	金、鉑金、銀、銅、鋁、鈦、鎳、鐵、鉬、鎢等金屬靶材
濺射電壓	300-600V,根據(jù)選擇靶材、控制參數(shù)不同而變化
濺射電流	0-200mA連續(xù)可調,步長10mA
濺射時間	0-9999s, 連續(xù)可調步長1s
操作界面	7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480
抽氣節(jié)拍	＜15分鐘
控制方式	只需設定濺射電流和時間即可，全自動控制具備預濺射擋板（預濺射時間可設定),全自動控制
保護功能	軟硬件互鎖、防止誤操作，具備電流、真空保護等
樣品臺直徑	≥90mm
真空室	高硅硼玻璃，規(guī)格尺寸約φ170×130mm
電源供電	220V 50Hz 最大功率800W
尺寸&重量	重量 420（長) ×330（深) ×450mm（高）、 25 kg （凈重)
冷卻方式	風冷
選配	樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監(jiān)測等