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GVC-2000 手套箱鍍電極專用磁控濺射儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京格微儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) GVC-2000
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/6/3 14:14:42
  • 訪問次數(shù) 1420

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  北京格微儀器有限公司長期致力于打造以用戶體驗(yàn)為中心的材料表征領(lǐng)域、材料表面改性等儀器設(shè)備研發(fā)制造,產(chǎn)品包括:磁控離子濺射儀,高真空磁控離子濺射儀,手套箱鍍電極制備鍍膜儀,微納器件制備鍍膜儀,高真空鍍碳儀。公司總部位于北京海淀中關(guān)村,有多名多年從事真空技術(shù)、電子光學(xué)、離子光學(xué)、表面物理、材料制備等技術(shù)人員聯(lián)合發(fā)起,團(tuán)隊(duì)全部為碩士以上學(xué)歷或高級(jí)職稱,具備專業(yè)的表面分析、結(jié)構(gòu)分析、原位分析等應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),在科研、產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域,沉浸多年,具備獨(dú)立設(shè)計(jì)、項(xiàng)目承擔(dān)、生產(chǎn)制造等綜合能力。當(dāng)前聚焦于具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)并具備國際競(jìng)爭力的電子顯微鏡樣品制備設(shè)備,并在眾多高校院所和產(chǎn)業(yè)單位得到青睞。

離子濺射儀、熱蒸發(fā)鍍碳儀

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,綜合

  北京格微儀器有限公司長期致力于打造以用戶體驗(yàn)為中心的材料表征領(lǐng)域、材料表面改性等儀器設(shè)備研發(fā)制造,公司總部位于北京海淀中關(guān)村,有多名多年從事真空技術(shù)、電子光學(xué)、離子光學(xué)、表面物理、材料制備等技術(shù)人員聯(lián)合發(fā)起,團(tuán)隊(duì)全部為碩士以上學(xué)歷或高級(jí)職稱,具備專業(yè)的表面分析、結(jié)構(gòu)分析、原位分析等應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),在科研、產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域,沉浸多年,具備獨(dú)立設(shè)計(jì)、項(xiàng)目承擔(dān)、生產(chǎn)制造等綜合能力。當(dāng)前聚焦于具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)并具備國際競(jìng)爭力的電子顯微鏡樣品制備設(shè)備,并在高校院所和產(chǎn)業(yè)單位得到青睞。

  手套箱鍍電極專用磁控濺射儀(手套箱鍍電極)GVC-2000自動(dòng)化程序控制,一鍵式操作,讓鍍膜更加高效。該設(shè)備采用觸摸控制,外置泵組設(shè)計(jì),采用平面磁控濺射靶設(shè)計(jì),從而使試樣在熱效應(yīng)最小的條件下得到濺射效果。
  磁控濺射儀(手套箱鍍電極)GVC-2000為掃描電鏡用戶在制樣過程中提供了更廣泛的選擇,以便適用支持掃描電子顯微鏡所需的涂層要求。磁控射的原理是,在電場(chǎng)內(nèi)在疊加一個(gè)磁場(chǎng),這樣電子在疊加場(chǎng)內(nèi)做旋運(yùn)動(dòng),行程很長,每個(gè)電子電離的氣體分子比直流多很多很多,所以可以在低電壓下,有較好的高空度。射產(chǎn)生同樣的效果。但是因?yàn)榇趴刂笨斩认鄬?duì)高,所以膜的粒小,膜層著力好,吧材的利用率也高。在直流射過程中,樣品的溫升主要來自于負(fù)商子在電場(chǎng)作用下對(duì)樣品的發(fā)擊,在磁控射中,負(fù)離子都被場(chǎng)束縛了,所以基本沒有對(duì)樣品的轟擊,所以溫升基本沒有,很適合溫度敏感性的樣品制備。
  GVC-2000手套箱鍍電極專用磁控濺射儀可用于:
  1、純氬、純氮環(huán)境,使樣品免受氧氣、水蒸氣或其他污染。
  2、助力新型電池研究。
  3、提供全套解決方案及交鑰匙服務(wù)。
  技術(shù)參數(shù):
  1、濺射靶頭采用平面磁控靶設(shè)計(jì);
  2、系統(tǒng)采用單片機(jī)等微處理器控制,全數(shù)字顯示;
  3、彩色液晶屏顯示,屏幕不小于5英寸;
  4、最大濺射電流不小于45mA,最小濺射電流不大于5mA,步進(jìn)量為1mA;
  5、濺射真空度可任意設(shè)定,且最小調(diào)節(jié)量0.1Pa;
  6、可存儲(chǔ)不少于5種靶材的工作參數(shù);
  7、最長濺射時(shí)間不小于600秒;
  8、具備電流保護(hù)和真空保護(hù)功能,在電流過大、真空度較差時(shí)保證設(shè)備安全;
  9、極限真空優(yōu)于1Pa;
  10、可實(shí)時(shí)顯示靶材使用時(shí)間和設(shè)備工作時(shí)間;
  11、可用實(shí)時(shí)曲線顯示濺射電流和真空度。


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