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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>凈化/清洗/消毒>等離子清洗機>CPC-G/Plus CIF實驗室型等離子清洗機

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CPC-G/Plus CIF實驗室型等離子清洗機

具體成交價以合同協(xié)議為準

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企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備, 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術,自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設備研發(fā)、制造業(yè)務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設計轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發(fā)成功。

◆ 2021 年,自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品,完善了等離子產(chǎn)品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發(fā)成功。


公司專注材料表面處理技術:

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業(yè)愿景:

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


半導體領域儀器設備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 環(huán)保,地礦,能源,交通

產(chǎn)品特點:

◆  7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面,自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài),20 個配方程序,工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。

◆  PLC 工控機控制整個清洗過程,手動、自動兩種工作模式。

◆  石英真空艙,真空管路系統(tǒng)采用 316 不銹鋼材質(zhì),耐腐蝕無污染。

◆  采用質(zhì)量流量計,實現(xiàn)對氣體輸入精準控制,改變傳統(tǒng)浮子流量計控制氣體流量不準確問題。

◆  HEPA 高效過濾,氣體返填吹掃,防止二次污染。

◆  60 度傾角操作界面設計,符合人體功能學,操作方便,界面友好。

◆  頂置真空艙,上開蓋設計,下壓式鉸鏈開關方式,開關蓋方便。

◆  CIF實驗室型等離子清洗機采用花灑式多孔進氣方式,改變傳統(tǒng)等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

◆  上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設計,符合人體功能學,操作更方便。

◆  有效清洗面積大,可清洗最大直徑 8 吋硅片。

◆  安全保護,艙門打開,自動關閉電源。


CIF實驗室型等離子清洗機技術參數(shù):

型號

CPC-G

CPC-Gplus

射頻電源

40KHz

13.56MHz

射頻功率

0-600W

0-150W

匹配器

自動匹配

激發(fā)方式

電容式

氣體控制

單路 MFC(可選兩路)

艙體尺寸

H100xΦ269mm

艙體容積

5.6L

艙體材質(zhì)

石英玻璃

有效處理尺寸

Φ269mm 圓盤

時間設定

9999 秒

真空泵

抽速 4m3/h

氣體穩(wěn)定時間

1 分鐘

真空度

100pa 以內(nèi)

 

AC220V 50/60Hz  752/302W

產(chǎn)品尺寸

L425xW480xH445mm

包裝尺寸

L550xW630xH700mm

整機重量

30kg





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