KT-Z1650CVD 高純度金靶材磁控濺射儀
- 公司名稱(chēng) 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
- 品牌 鄭科探
- 型號(hào) KT-Z1650CVD
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2023/12/26 10:52:13
- 訪問(wèn)次數(shù) 1246
聯(lián)系方式:裴勇15136134901 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 | 靶材尺寸 | 50mm |
---|---|---|---|
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬(wàn) |
濺射氣體 | 根據(jù)需求氣體 | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
樣品倉(cāng)尺寸 | φ160x160mm | 樣品臺(tái)尺寸 | φ50mm |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
高純度金靶材磁控濺射儀
在不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對(duì)薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。金薄膜方阻隨著蒸發(fā)速率提高無(wú)明顯變化,而方阻均勻性變差,但在可接受的范圍內(nèi)。但蒸發(fā)速率過(guò)高會(huì)引起金屬大顆粒增多。因此,選用適合的蒸發(fā)速率對(duì)Au膜質(zhì)量有很大影響。
高純度金靶材
應(yīng)用領(lǐng)域:
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |