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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>制樣/消解設(shè)備>離子濺射儀>KT-Z1650CVD 高純度金靶材磁控濺射儀

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KT-Z1650CVD 高純度金靶材磁控濺射儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng) 鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
  • 品牌 鄭科探
  • 型號(hào) KT-Z1650CVD
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2023/12/26 10:52:13
  • 訪問(wèn)次數(shù) 1246

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開(kāi)發(fā)、制造、經(jīng)營(yíng)為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國(guó)內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一

公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會(huì)為宗旨,積極設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過(guò)長(zhǎng)期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng),為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過(guò)和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺(tái),為科探儀器了解市場(chǎng)需求提供了強(qiáng)有力的支持!。

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷(xiāo)于各大院校,及材料研究所。

公司與國(guó)內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開(kāi)放實(shí)驗(yàn)室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級(jí)工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開(kāi)發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠(chéng)的心期待與您的合作。

 

 

 

 

 

 

 

實(shí)驗(yàn)室設(shè)備 真空設(shè)備 儀器儀表 電子元器件 五金交電實(shí)驗(yàn)室設(shè)備安裝

靶材材質(zhì) 金 鉑 銅 銀 靶材尺寸 50mm
產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 1-5萬(wàn)
濺射氣體 根據(jù)需求氣體 控制方式 觸摸屏智能控制
樣品倉(cāng)尺寸 φ160x160mm 樣品臺(tái)尺寸 φ50mm
應(yīng)用領(lǐng)域 化工,電子

高純度金靶材磁控濺射儀

在不同的蒸發(fā)速率下沉積300nmAu薄膜,研究蒸發(fā)速率對(duì)薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結(jié)構(gòu)變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。金薄膜方阻隨著蒸發(fā)速率提高無(wú)明顯變化,而方阻均勻性變差,但在可接受的范圍內(nèi)。但蒸發(fā)速率過(guò)高會(huì)引起金屬大顆粒增多。因此,選用適合的蒸發(fā)速率對(duì)Au膜質(zhì)量有很大影響。


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高純度金靶材

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應(yīng)用領(lǐng)域:

離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類(lèi)型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測(cè)量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口








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