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PLUTO-MC 真空等離子體涂覆薄膜沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 上海沛沅儀器設備有限公司
  • 品牌 PLUTOVAC
  • 型號 PLUTO-MC
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/10/17 16:15:27
  • 訪問次數(shù) 1552

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上海沛沅儀器是一家集等離子體技術設計、制造、產(chǎn)品開發(fā)、銷售與服務于一體的技術型企業(yè),公司致力于提供專業(yè)的等離子表面處理系統(tǒng),比如等離子清洗機,等離子去膠機,等離子刻蝕機,實驗室等離子處理機等,向用戶提供國內(nèi)等離子表面處理設備和優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務。

公司技術團隊67%以上具備碩士或碩士以上學位,公司由長期從事等離子體應用技術研究開發(fā)、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產(chǎn)業(yè)化專家聯(lián)合創(chuàng)建,提供一系列等離子體表面處理系統(tǒng)、等離子體刻蝕系統(tǒng)、常壓等離子清洗設備等,并與中科院上海應用物理研究所,復旦大學,中國科技大學,上??萍即髮W,上海交通大學等建立了密切的技術合作交流關系。

 

公司的愿景是成為等離子體應用領域的優(yōu)質(zhì)供應企業(yè),用科研的沉淀和應用的創(chuàng)新,為中國的制造業(yè)崛起和化戰(zhàn)略貢獻一份力量。

 

 

 

 

等離子清洗機,真空等離子清洗機,等離子去膠機,等離子表面處理機,等離子刻蝕機,實驗室等離子清洗機,小型等離子清洗機,大氣等離子清洗機,等離子鍍膜機

真空等離子體涂覆薄膜沉積設備

常規(guī)的沉積涂覆工藝的缺點:


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涂層厚度為毫米量級會影響電子產(chǎn)品的外觀及性能。

  • 大量的化學品消耗,污染嚴重。

  • 毛細效應,導致高密度器件表面無法實現(xiàn)涂層。

  • 樣品處理前仍然需要進行復雜的清洗工藝以確保涂層黏附性。

  • 涂覆有方向性,影響整體防護效果。

  • 涂覆會影響樣品的射頻穿透性及產(chǎn)品的外觀。

 

 

設備工作原理:

Pluto-MC利用等離子體改性時,將試樣置于特定的離子處理裝置中,通過高能態(tài)的等離子轟擊試樣的表面,將能量傳遞給試樣表層的分子,使試樣發(fā)生

熱蝕、交聯(lián)、降解和氧化反應,并使試樣表面發(fā)生C-F鍵和C-C鍵的斷裂,產(chǎn)生大量自由基或引進某些極性基團,從而優(yōu)化試樣表面的性能。

 

等離子體對其改性的主要途徑是引發(fā)表面接枝,具體方法是用非聚合氣體(如Ar,H2,O2,N2和空氣等)對樣品表面進行等離子體處理,使其表而形成活性自

由基,之后利用活性自由基引發(fā)功能性單體,使其在表面進行接枝聚合。利用沉淀反應進行表面改性,這是工業(yè)上目前應用最多的方法。



 

真空等離子體涂覆薄膜沉積設備產(chǎn)品特點:

1.13.56MHz射頻電源與自動匹配系統(tǒng),具備優(yōu)異的穩(wěn)定性與可重復性。

2.優(yōu)化的氣體饋入與分布設計,提供優(yōu)秀的處理均勻性。

3.可靈活設置的電極及電極的實時可控,滿足功能材料的大面積可控沉積。

4.精準安全的液態(tài)源供應系統(tǒng),滿足不同功能材料的快速大面積沉積。

5.PLC提供穩(wěn)定的過程控制,設備運行的實時參數(shù)通過顯示屏直觀呈現(xiàn)。

6.系統(tǒng)設置多級管理權(quán)限,集簡易的操作體驗與嚴謹?shù)墓に嚬芸嘏c一體。


PLUTO-MC等離子涂覆鍍膜參數(shù):

  • 最大涂覆面積:150mm*150mm

  • 頻率:13.56MHz

  • 功率:0-200W

  • 物料容積:10-150ml

  • 溫控范圍:加熱(室溫~200℃)保溫(室溫~200℃)

  • 流量控制:轉(zhuǎn)子流量計

  • 管路:最多4路氣體(同時可通入4種物質(zhì))

  • 電源電壓:交流220V

 

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