TTT-07-UV Litho-ACA 無掩膜版紫外光刻機

在電子通信行業(yè)蓬勃發(fā)展的大背景下，集成電路產(chǎn)業(yè)迎來了以光刻技術(shù)為核心技術(shù)的爆炸式需求。利用紫外光源對紫外敏感的

光刻膠進行空間選擇性的曝光，進而將設(shè)計好電路版圖轉(zhuǎn)移到硅片上形成集成電路，這一工藝就是紫外光刻技術(shù)。實現(xiàn)光刻工

藝的設(shè)備一般稱之為光刻機，或為曝光機。光刻機的分辨率和套刻精度直接決定了所制造的集成電路的集成度，也成為了評價

光刻設(shè)備品質(zhì)的關(guān)鍵指標。

光刻機作為生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，有接觸式光刻機、接近式光刻機、投影式光刻機等類型。而這些類型的常規(guī)光刻

機需要定制價格高昂的光學(xué)掩模板，同時，任何設(shè)計上的變動都需要掩模板重新制造也使得它有著靈活性差的劣勢。激光直寫

設(shè)備具備很高的靈活性，且可以達到較高的精度，但逐行掃描的模式使得曝光效率較低。出于同時追求高精度、高效率、強靈

活性、低損耗，在投影式光刻機基礎(chǔ)上，無掩模板紫外光刻機應(yīng)運而生。近些年，基于空間光調(diào)制器（DMD/DLP）的技術(shù)在

紫外曝光方面獲得了長足的進展。

無掩膜版紫外光刻機 激光直寫 灰度光刻 多光源TTT-07-UV Litho-ACA無掩膜版紫外光刻機的特征尺寸為1 µm（光刻鏡頭B），高性能無鐵芯直線驅(qū)動電機保證了套刻精度和高達6英寸畫幅的圖形拼接，而基于空間光調(diào)制器的光刻技術(shù)，使得其在光學(xué)掩模板設(shè)計上有著得天獨厚的優(yōu)勢。高效、靈活、高分辨率和高套刻精度等眾多優(yōu)點，必將使其成為二維材料、電輸運測試，光電測試、太赫茲器件和毫米波器件等領(lǐng)域的科研利器。