無掩膜光刻機產品介紹

光刻機又名掩膜對準曝光機，是芯片制造流程中光刻工藝的核心設備。其主要用途是生產集成電路，將設計好的集成電路模板復刻到硅晶圓上，從而生產出微小、精確、高效率的集成電路。

根據(jù)光刻機的曝光方式，主要可以分為接觸式光刻機、接近式光刻機和直寫式光刻機，其中直寫式光刻機又可以依據(jù)其是否需要使用掩膜版細分為有掩膜和無掩膜兩種。無掩膜光刻機是一種不需要使用傳統(tǒng)掩膜版的光刻機，它通過直接對晶圓進行曝光，實現(xiàn)圖案的轉移，能夠更快速地制造特定產品、降低成本，除了能夠滿足傳統(tǒng)的2D光刻需求外，還能實現(xiàn)2.5D光刻（即灰度光刻）。無掩膜光刻機不需要掩膜版、高度靈活的優(yōu)點，使其被廣泛應用于科學研究、定制化生產、快速原型制造、電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等領域。

科研版無掩膜光刻機

高靈活性、高精度、無掩膜的優(yōu)勢，非常適用于科學研究。

ACA系列科研版無掩膜光刻機，其基于空間光調制技術，實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻，靈活性使其成為科學研究的重要選擇。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源，設備穩(wěn)定，上手簡單。其原位光繪和交互式套刻指引功能，讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列無掩膜光刻機為科研工作提供了強大的支持，助力科學研究領域的發(fā)展和創(chuàng)新。

ACA無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

ACA Pro無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

ACA Master無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.4μm

6英寸光刻面積

掃描光刻/步進光刻 可切換

無掩膜光刻機

高速版無掩膜光刻機

更快的加工速度、更強的設備性能，適用于小批量生產制造。

Speed系列是高速版的無掩膜光刻機，其配備了高速空間光調制器以及高功率紫外激光器。這一系列的光刻機不僅保證了高精度和高靈活性，更在這一基礎上，擁有了更高的光刻效率。其性能特點使其特別適合小批量生產的場景。在該場景中，它能夠發(fā)揮出其高效的優(yōu)勢，為生產帶來更高的效率和更好的質量。Speed 系列為相關產業(yè)提供了更優(yōu)質的選擇，滿足了市場對于高效率、高質量生產的需求。

S無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1μm

8英寸光刻面積

高速掃描光刻

無掩膜光刻機

S+無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸0.5μm

8英寸光刻面積

支持掃描/步進雙模式

無掩膜光刻機

生命科學無掩膜光刻機

更短的波長、更大的深寬比，適用于高深寬比的厚膠工藝。

BIO系列是生命科學版的無掩膜光刻機，該設備具有更高的深寬比，能滿足生命科學領域的特殊需求。它主要用于制備像微流控芯片之類的具有特定需求的樣品 。在微流控芯片的制造過程中，其高深寬比和高靈活性的特點得以展現(xiàn)，可確保芯片的質量和性能。這使得它成為生命科學研究和相關應用中的重要工具。BIO 系列的出現(xiàn)為生命科學領域帶來了新的機遇，有助于推動相關技術的發(fā)展和創(chuàng)新，為科學研究和實際應用提供有力支持。

BIO無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1μm

高深寬比

無掩膜光刻機

教育版無掩膜光刻機

桌面型無掩膜光刻機，靈活小巧，非常適用于微電子、集成電路等加工制造的實驗課程。

TTT-07-UV Litho-Y是一款桌面型無掩膜光刻機，該機器具備了無掩膜光刻機的諸多優(yōu)點，桌面型的設計使其便于教學使用。不僅如此，該設備還針對教育場景進行了優(yōu)化，簡化操作流程，讓學生更容易上手。通過該設備，學生可更直觀地了解光刻技術，掌握光刻加工工藝，提升實踐能力，為未來的科研工作打下基礎。Y在教育領域的應用，有助于培養(yǎng)更多優(yōu)秀的科技人才。

Y無掩膜光刻機亮點：

特征尺寸1.2μm

2英寸光刻面積

桌面型光刻機

無掩膜光刻機