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化工儀器網>產品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>納米壓印設備>GL6 R&D 納米壓印系統(tǒng)

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GL6 R&D 納米壓印系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

一、產品介紹:

1. 兼容基底尺寸:直徑≤100mm

2. 支持基底材料:硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等                                                                            

3. 納米壓印技術:旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平壓印、旋涂膠基底壓印、點膠自動找平壓印模式

4. 壓印精度:優(yōu)于10nm                                                                                                        

5. 結構深寬比:優(yōu)于10:1

6. 殘余層控制:可小于10nm   微米級TTV控制精度

7. 紫外固化光源:紫外LED(365nm)面光源,光強>300mW/cm2

8. 自動壓印/自動脫模/自動工作模具復制/主動找平壓印/模自動點膠:支持

9. 模具基底對位系統(tǒng):手動對位(選配)

10. 上下片方式:手動上下片

二、技術優(yōu)勢:

隨機提供全套納米壓印工藝與材料,包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結構、微透鏡陣列、勻光片結構等工藝流程,幫助客戶零門檻達到國際納米壓印水平。











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