磁控共濺鍍?cè)O(shè)備
- 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/7/10 13:10:41
- 訪問次數(shù) 445
磁控濺鍍磁控共濺鍍?cè)O(shè)備磁控共濺鍍?cè)O(shè)備價(jià)格供應(yīng)磁控共濺鍍?cè)O(shè)備
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子 |
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磁控共濺鍍是指同時(shí)有兩個(gè)或多個(gè)磁控濺鍍槍,濺鍍於被鍍物上。磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料,通過分別優(yōu)化每一支磁控濺鍍槍(靶材)的功率來控制薄膜品質(zhì),其薄膜厚度取決於濺鍍時(shí)間。
SYSKEY的磁控共濺鍍?cè)O(shè)備提供了精準(zhǔn)控制多個(gè)磁控濺鍍的製程條件,為客戶提供最好品質(zhì)的複合式薄膜。
SYSKEY磁控共濺鍍?cè)O(shè)備的濺鍍腔中,有單片和多片式的loading chamber,可節(jié)省其製程腔體的抽氣時(shí)間,進(jìn)而節(jié)省整體實(shí)驗(yàn)時(shí)間。
SYSKEY的濺鍍腔中,在載臺(tái)部分可獨(dú)立施打偏壓,對(duì)其基板進(jìn)行清潔與增加材料的附著性等功能。
離子源可用於基板清潔和加速鍍膜材料的濺射速率,並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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