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有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 13:24:00
  • 訪問次數(shù) 429

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì)，專精的服務(wù)，提供理想的解決方案。

我們長(zhǎng)期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理，為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向，用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)演示和技術(shù)交流，打消顧慮，彼此協(xié)作，為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備，其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念，以人為本的企業(yè)文化，我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)！

合作丨共贏，選擇我們，選擇未來！

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備

有機(jī)金屬熱沉積系統(tǒng)是一種熱蒸發(fā)的方式，用於將有機(jī)或金屬材料沉積到基板表面上。該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實(shí)現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性。

為了達(dá)到此要求，有機(jī)材料熱沉積系統(tǒng)使用高精準(zhǔn)熱蒸發(fā)源作為加熱源，並使用金屬、石英、陶瓷或PBN坩堝來容納有機(jī)材料以及PID控制器來控制其沉積速率。該系統(tǒng)通常用於有機(jī)電子研究領(lǐng)域，例如OPV、OLED、OPD... 

有機(jī)材料熱蒸鍍?cè)O(shè)備

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封裝系統(tǒng)

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SYSKEY針對(duì)研究等級(jí)的實(shí)驗(yàn)室，推出玻璃對(duì)玻璃封裝的對(duì)位壓合機(jī)構(gòu)。我們整合塗膠系統(tǒng)(UV或liquid gate)和紫外光燈可安裝於手套箱或是獨(dú)立的一個(gè)壓合腔體內(nèi)，且可手動(dòng)進(jìn)行放片，也可以透過自動(dòng)傳片系統(tǒng)使用。可撓式OLED必須輕薄且具有可撓曲性，因此過往的玻璃材料並不適合用於此類的封裝，必須採用薄膜封裝技術(shù)(Thin-Film Encapsulation，TFE)或混和封裝技術(shù)。SYSKEY針對(duì)薄膜封裝推出電漿輔助式化學(xué)氣相沉積、原子層沉積和聚對(duì)二甲苯沉積等三種設(shè)備，且使用低溫的沉積技術(shù)，分別在OLED 上堆疊多層薄膜(SiNX、SiOXNX、Al2O3、ZnO、Parylene)並得到更好的保護(hù)層，以減少水氧對(duì)於有機(jī)元件的影響，從而提高OLED面板的壽命和性能。

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應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 有機(jī)發(fā)光二極體。

  • 有機(jī)光伏打電池。

  • 材料科學(xué)研究。

 

  • 由304不銹鋼所製成，通過外部焊接304不銹鋼管線對(duì)腔體進(jìn)行水冷。

  • 寬大的前開式門，並有兩個(gè)視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。

  • 一個(gè)熱蒸發(fā)腔體內(nèi)，最多可容納

    12組熱蒸發(fā)源。

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化的基板尺寸，最大直徑為12寸晶圓或470 x 370 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 用於有機(jī)材料的蒸發(fā)源（可用金屬、陶瓷、石墨或PBN坩堝）。

  • 鍍率自動(dòng)控制：最小值為0.01?/s。

  • 蒸發(fā)源溫度控制可達(dá)到精度±0.1oC。

  • 具有順序操作或共沉積的多個(gè)蒸發(fā)源。

  • 用CCD對(duì)位將玻璃基板和遮罩的

    位置對(duì)準(zhǔn)在±5μm以內(nèi)。

  • 每個(gè)蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。

  • 每個(gè)蒸發(fā)源和基板均裝有百葉窗。

  • 可以與傳送腔、機(jī)械手臂和手套箱整合在一起。

  • 殘留氣體分析儀。

 




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