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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>分析儀器>其它分析儀器>其它通用分析> 金屬熱蒸鍍設(shè)備

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金屬熱蒸鍍設(shè)備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/7/10 13:22:07
  • 訪問次數(shù) 502

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團隊,專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子

金屬熱蒸鍍設(shè)備

熱蒸發(fā)是物理氣相沉積(PVD)中常用方法,也是PVD簡單的形式之一。使用電加熱的蒸發(fā)源可用於沉積大多數(shù)的有機和無機薄膜,其中以電阻式加熱法最為常見的。這些蒸發(fā)源的優(yōu)點為它們可以提供一種簡單的薄膜沉積方法,以電流通過其容納材料的舟為方式,從而加熱材料。當沉積材料的蒸氣壓超過真空室的溫度時,材料將開始蒸發(fā)並沉積到基板上。

SYSKEY金屬熱蒸鍍設(shè)備的熱蒸發(fā)可以精準的控制蒸發(fā)速度,且薄膜的厚度和均勻度小於+/- 3%。

離子源可用於基板清潔和加速材料的蒸發(fā)速度,並且離子源在材料沉積過程中可幫助沉積並使沉積後的薄膜更為緻密。

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應(yīng)用領(lǐng)域腔體
  • 金屬材料研究

  • 奈米薄膜。

  • 太陽能電池

 

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸

    和其應(yīng)用。

  • 寬大的前開式門,並有兩個視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源

  • 腔體的極限真空度約為10-8 Torr。

配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑為12寸

    晶圓或470 x 370 mm2(玻璃)。

  • 寬大的前開式門,並有兩個視窗和

    視窗遮版用於觀察基材和蒸發(fā)源。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±3%

  • 具有順序操作或共沉積的多個蒸發(fā)源。

  • 基板可加熱到800°C

  • 利用載臺旋轉(zhuǎn)來改善薄膜沉積之品質(zhì)。

  • 基板至蒸發(fā)源之間距為可調(diào)式的。

  • 每個蒸發(fā)源和基材均有安裝遮板。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套

    箱整合在一起

  • 結(jié)合離子源、濺鍍槍、電子束、

    等離子清潔...。

  • 基板冷卻。

  • 殘留氣體分析儀




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