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GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備

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納米壓印光刻納米壓印設(shè)備

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青島天仁微納科技有限責(zé)任公司成立于2015年,是引新的納米壓印設(shè)備和解決方案提供商。公司的核心競(jìng)爭(zhēng)力是為客戶提供納米壓印整體解決方案。產(chǎn)品與服務(wù)涵蓋納米壓印相關(guān)的設(shè)備、模具、材料、工藝以及生產(chǎn)咨詢服務(wù)。我們致力于拓展納米壓印技術(shù)在創(chuàng)新產(chǎn)品領(lǐng)域的應(yīng)用,例如發(fā)光二極管(LEDs)、微納機(jī)電系統(tǒng)(MEMs/NEMs)、虛擬現(xiàn)實(shí)和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)光波導(dǎo)(AR Waveguides)、3D傳感、生物芯片、顯示以及太陽能等。

微納加工設(shè)備,配套材料,配套產(chǎn)品,相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)咨詢服務(wù)

GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備,可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu),還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

GL SR300是一種步進(jìn)式紫外納米壓印設(shè)備,可以在300mm尺寸基底上加工精度優(yōu)于20納米的三維結(jié)構(gòu),還可以用于將小面積納米壓印模具通過步進(jìn)式壓印拼接成大面積壓印母模具。

通常納米壓印模具的加工需要利用的電子束或者激光直寫技術(shù)、刻蝕技術(shù)等,加工大面積納米壓印母模具成本極其高昂,技術(shù)可行性很低。通過GL SR300步進(jìn)式納米壓印技術(shù)可以將小面積納米壓印模具拼接成大面積納米壓印母模具,然后從大面積母模具可以復(fù)制大面積工作模具,用來進(jìn)行大幅面壓印。這種方式可以大大降低納米壓印模具成本,使得低成本納米壓印生產(chǎn)成為可能。


主要功能

●300mm步進(jìn)式紫外納米壓印
●支持從微透鏡復(fù)制到整面微透鏡陣列模具,用做晶圓級(jí)光學(xué)加工母模具
●支持從小面積高精度納米結(jié)構(gòu)模具復(fù)制到大幅面模具,用作CLIV全副面壓印母模具
●支持各種模具材質(zhì)與形狀
●支持旋涂壓印膠基底步進(jìn)式壓印復(fù)制,適用于高精度納米結(jié)構(gòu)模具拼接
●設(shè)備自帶點(diǎn)膠裝置,支持點(diǎn)膠步進(jìn)式壓印復(fù)制,適用于微透鏡陣列等晶圓級(jí)光學(xué)結(jié)構(gòu)模具拼接
●標(biāo)配高功率紫外LED面光源(365nm,光強(qiáng)>200mW/cm2 ),水冷冷卻,特殊功率以及特殊、混合波長(zhǎng)光源可訂制,支持各種商用納米壓印材料
●標(biāo)配設(shè)備內(nèi)部潔凈環(huán)境與除靜電裝置
●高精度閉環(huán)控制位移平臺(tái),定位精度優(yōu)于1μm

設(shè)備照片

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GL SR300 300mm步進(jìn)式納米壓印光刻/拼版設(shè)備相關(guān)參數(shù)

兼容基底尺寸<300mm方形
支持基底材料硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
納米壓印技術(shù)步進(jìn)式納米壓印
壓印精度優(yōu)于20納米*
結(jié)構(gòu)深寬比優(yōu)于10比1*
殘余層控制可小于10nm*
紫外固化光源紫外LED(365nm)面光源,光強(qiáng)>1000mW/cm2,水冷冷卻(2000mW/cm2類型光源可選配)
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制標(biāo)配,外部環(huán)境Class 100,內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10
自動(dòng)壓印支持
自動(dòng)脫模

支持

自動(dòng)工作模具復(fù)制

支持

自動(dòng)點(diǎn)膠

選配

單次壓印面積

50x50mm

定位精度

優(yōu)于1μm





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