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美國(guó)Lakeshore 低溫探針臺(tái)8-12寸

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司
品牌 其他品牌
型號(hào)
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時(shí)間 2024/4/14 11:05:38
訪問(wèn)次數(shù) 95

產(chǎn)品標(biāo)簽

低溫探針臺(tái)探針臺(tái)

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昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司是專業(yè)的半導(dǎo)體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商，昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、半導(dǎo)體企業(yè)。

昱臣半導(dǎo)體技術(shù)（香港）有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括：

- 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀(Hall Effect Measurement System)；

- 快速退火爐(RTP)；

- 回流焊爐，真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System)；

- 探針臺(tái)(Probe Station)，低溫探針臺(tái)(Cryogenic Probe Station)；

- 貼片機(jī)(Die Bonder)，劃片機(jī)(Scriber)，球焊機(jī)/鍥焊機(jī)(Wire Bonder)；

- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD)，等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備(PEALD)；

- 磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(E-beam Evaporator)，熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)(Thermal Evaporator)，脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;

- 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)，等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)；

- 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)，ICP刻蝕機(jī)，等離子體刻蝕機(jī)；

- 致冷機(jī)/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler)；

- 加熱臺(tái)、熱板、烤膠臺(tái) (Hot Chuck / Hot Plate)；

- 掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)，光反射膜厚儀(Reflectometer)；

- 高溫超導(dǎo)磁體(HTS Magnet)，快速場(chǎng)循環(huán)核磁共振弛豫測(cè)試儀(FFC Reflexometer)；

展開(kāi)

原子層沉積系統(tǒng)，快速退火爐，PECVD，刻蝕機(jī)

CPX低溫探針臺(tái)采用模塊化設(shè)計(jì)以滿足廣泛實(shí)驗(yàn)的需求，是Lake Shore功能最多的高性能低溫探針臺(tái)。CPX多樣的選件和配置可使研究者完成精確的、富有挑戰(zhàn)性的測(cè)量。CPX具有多個(gè)防輻射屏蔽層，以實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的低溫性能，其低溫選件可使樣品溫度低至1.6 K。探針臺(tái)內(nèi)多個(gè)溫度計(jì)的安裝可確保準(zhǔn)確和重復(fù)的測(cè)量。

由于采用了分流設(shè)計(jì)，樣品可在防輻射屏冷卻時(shí)保持溫度，與高真空選件，限度地減少了冷卻過(guò)程中的樣品冷凝，這是測(cè)量親水性有機(jī)材料的關(guān)鍵要求。理想的應(yīng)用包括有機(jī)物研究和微波測(cè)量。真空Load Lock可配置用于高通量測(cè)量。此外，CPX可以被配置為能夠在真空下將受控的樣品輸送到腔室。CPX可容納直徑為51 mm（2英寸）的晶圓（最多102 mm[4英寸]可選）。該系統(tǒng)使用液氦或液氮運(yùn)行。

主要特征：

√ 溫度范圍4.3 K~475 K

√ 可選低溫1.9 K/1.6 K

√ 標(biāo)準(zhǔn)2英寸（51 mm）樣品，4英寸（102 mm）可定制

√ 樣品可面內(nèi)±5°旋轉(zhuǎn)

√ 樣品振動(dòng)＜30 nm可選

√ 超高真空選件

√ 可定制真空腔聯(lián)用轉(zhuǎn)移樣品，避免樣品暴露在大氣環(huán)境

√ 環(huán)形磁體選件0.19T

設(shè)備參數(shù)：

溫度范圍
最多安裝6個(gè)探針臂	基礎(chǔ)溫度4.3 K，控制范圍4.4 K ~ 475 K
安裝PS-LT低溫選件	基礎(chǔ)溫度1.9 K，控制范圍2 K ~ 475 K
安裝PS-VLT-CPX極低溫選件	基礎(chǔ)溫度1.6 K，控制范圍1.65 K ~ 400 K
安裝PS-LL-CPX選件（Load Lock）	基礎(chǔ)溫度10 K，控制范圍10 K ~ 400 K
溫度穩(wěn)定性	液氦	液氮
基礎(chǔ)溫度 (無(wú)加熱控制)	±15 mK	±20 mK
<10 K	±50 mK	—
10 K ~ 100 K	±20 mK	±50 mK
101 K ~ 250 K	±15 mK	±50 mK
251 K ~ 350 K	±15 mK	±100 mK
351 K ~ 675 K	±50 mK	±100 mK
真空	以TPS-FRG分子泵組為標(biāo)準(zhǔn)	PS-HV-CPX高真空選件
抽真空時(shí)間	30 min (<1 × 10^-3 Torr)	10 min (<1 × 10^-3 Torr)
室溫	<5 × 10^-4 Torr	<5 × 10^-6 Torr
基礎(chǔ)溫度	<1 × 10^-5 Torr	<5 × 10^-7 Torr
溫度	<1 × 10^-5 Torr	<5 × 10^-7 Torr
循環(huán)時(shí)間
總循環(huán)	3 h
抽真空	0.5 h
探針臺(tái)冷卻	1.25 h
探針臺(tái)升溫	2 h
Load Lock樣品更換時(shí)間	1小時(shí)（配有PS-LL-CPX選件）
樣品
尺寸	51 mm（2英寸）標(biāo)準(zhǔn)
	25.4 mm（1英寸）安裝PS-VLT-CPX高真空選件
	25.4 mm（1英寸）安裝PS-LL-CPX Load Lock選件
樣品背光接口	不可選
樣品旋轉(zhuǎn)	±5°面內(nèi)旋轉(zhuǎn)
樣品振動(dòng)	＜300 nm標(biāo)準(zhǔn)，＜30 nm配有PS-PVIS減震選件
探針配置
探針數(shù)	6
探針臂溫度計(jì)	用于監(jiān)視探針臂的溫度
冷卻探針支架	＜20 K(樣品在基礎(chǔ)溫度下)
探針支架	連接樣品臺(tái)或4K防輻射屏熱沉
探針臂支架	連接防輻射屏熱沉
DC/RF探針	電絕緣>100GΩ用于低漏電流測(cè)量
微波探針	頻率范圍從DC到67GHz
光纖探針	可用于電光測(cè)量
落針?lè)秶?/span>	所有探針均可在直徑為 25.4 毫米（1 英寸）的圓內(nèi)落針

美國(guó)Lakeshore 低溫探針臺(tái)8-12寸

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