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NE-5700/NE-7800 刻蝕設(shè)備

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 ULVAC/日本愛發(fā)科
  • 型號 NE-5700/NE-7800
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/9/6 10:32:07
  • 訪問次數(shù) 417
產(chǎn)品標(biāo)簽

NE-5700/NE-7800刻蝕設(shè)備

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1 產(chǎn)品概述:

   刻蝕設(shè)備是半導(dǎo)體制造、微電子加工及光電子器件生產(chǎn)中的關(guān)鍵設(shè)備之一。它利用化學(xué)或物理方法,通過選擇性去除材料表面的部分區(qū)域,以形成所需的圖案或結(jié)構(gòu)。刻蝕設(shè)備的發(fā)展與光刻技術(shù)、互連技術(shù)等密切相關(guān),是芯片制造流程中環(huán)節(jié)。隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的不斷進(jìn)步,刻蝕設(shè)備也在不斷升級,以滿足更高精度、更高效率、更低損傷的加工需求。

2 設(shè)備用途:

刻蝕設(shè)備的主要用途包括:

  1. 半導(dǎo)體芯片制造:在集成電路(IC)制造過程中,刻蝕設(shè)備用于在硅片上刻蝕出晶體管、電容器、電阻器等微細(xì)電路結(jié)構(gòu)。這些結(jié)構(gòu)構(gòu)成了芯片內(nèi)部的電子元件,決定了芯片的功能和性能。

  2. 平板顯示器制造:在液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)等平板顯示器的制造過程中,刻蝕設(shè)備用于制作像素、透明導(dǎo)電層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。

  3. 微電子元件制造:刻蝕設(shè)備還廣泛應(yīng)用于制造傳感器、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、納米器件等微小尺度的電子元件。

3 設(shè)備特點(diǎn)

刻蝕設(shè)備具有以下幾個(gè)顯著特點(diǎn):

  • 高精度:刻蝕設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)微米甚至納米級別的加工精度,確保芯片和其他微納器件的結(jié)構(gòu)精確無誤。

  • 高效率:通過先進(jìn)的工藝技術(shù)和設(shè)備設(shè)計(jì),刻蝕設(shè)備能夠在短時(shí)間內(nèi)完成大量加工任務(wù),提高生產(chǎn)效率。

  • 低損傷:在刻蝕過程中,設(shè)備采用溫和的刻蝕方法和精確的控制技術(shù),以減少對材料表面的損傷和破壞。

  • 多功能性:刻蝕設(shè)備通常具有多種工作模式和加工能力,可以適應(yīng)不同材料和結(jié)構(gòu)的加工需求。

    4 技術(shù)參數(shù)和特點(diǎn):

    除單腔之外,另可搭載有磁場ICPISM)或NLD等離子源、去膠腔體、CCP腔體等對應(yīng)多種刻蝕工藝。

    為實(shí)現(xiàn)制程再現(xiàn)性及安定性搭載了星型電及各種調(diào)溫技能。

    擁有簡便的維護(hù)構(gòu)造,提供清洗、維護(hù)及人員訓(xùn)練服務(wù)等綜合性的售后服務(wù)體制。

    門的半導(dǎo)體技術(shù)研究所會提供完備的工藝支持體制。


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