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MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 SUSS
- 型號 MaskTrack Pro
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2024/9/5 9:14:28
- 訪問次數(shù) 152
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1.產(chǎn)品概述:
掩模的完整性對高標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜自動(dòng)處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點(diǎn)在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標(biāo)準(zhǔn),它是應(yīng)對 193i 1x half-pitch DPT、紫外光刻 (EUVL) 和納米壓印光刻 (NIL)高要求的創(chuàng)新解決方案。以創(chuàng)新技術(shù)大限度地提高光掩模性能。
2.配置:
MaskTrack Pro 烘烤和顯影系統(tǒng)是 SUSS MicroTecs 下一代光刻技術(shù)掩模產(chǎn)品線的一部分。為亞32 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)而設(shè)計(jì),平臺(tái)能夠在制造掩模時(shí)完成高度復(fù)雜的工藝步驟。
Mask Track Pro 提供一個(gè)特殊的無硫自動(dòng)光掩模清洗配置選項(xiàng)。背面清潔系統(tǒng)提供工廠使用的光掩模特殊清潔解決方案,其中不僅定期清除背面污垢,還必須除去正面的潮濕斑點(diǎn)。此系統(tǒng)還適用于清潔小批量的光掩模坯件以及用于研究。
MaskTrack Pro 提供的物理和化學(xué)清洗法組合。能夠有效地清除顆粒和有機(jī)及無機(jī)污物。此外,智能清洗過程和各種表面處理方法確保技術(shù)節(jié)點(diǎn)掩模的完整性低于 1x nm Half-Pitch。MaskTrack Pro 向后兼容至 90 nm Half-Pitch。創(chuàng)新的平臺(tái)方案提供一個(gè)群集解決方案連同 MaskTrack Pro InSync 系統(tǒng)、掩模背面粒子探測以及 EUV 內(nèi)光罩庫。因此,平臺(tái)保證了掩模全面管理方法,這對 EUVL 基礎(chǔ)設(shè)施十分重要。
3.產(chǎn)品優(yōu)勢:
MaskTrack Pro 允許用第三方的產(chǎn)品擴(kuò)展工具集群,并提供一個(gè)全面的方法。
縮短貨期時(shí)間
延長掩模的壽命
提高掃描儀的運(yùn)行時(shí)間
降低運(yùn)行成本