PC450 高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

1.產(chǎn)品概述：

高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

2.設(shè)備用途：

可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項(xiàng)目。

3.真空室結(jié)構(gòu):

圓筒形側(cè)開(kāi)門(mén)，通常采用不銹鋼材質(zhì)制造，具備良好的密封性能

真空室尺寸:Ф450x550mm

限真空度:≤8.0E-5Pa

沉積源:永磁靶2套，φ3英寸

樣品尺寸，溫度:小型粉末顆粒狀樣品

占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動(dòng)設(shè)備電控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)：采用計(jì)算機(jī)控制，具有液晶顯示屏、鼠標(biāo)鍵盤(pán)操作界面，支持自動(dòng)控制和手動(dòng)控制兩種方式，操作簡(jiǎn)便，并可實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過(guò)程的全自動(dòng)化操作。