PC450 高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品標(biāo)簽

薄膜沉積

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公司介紹 主營產(chǎn)品

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng)，軟件著作權(quán) 14 項(xiàng)，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機(jī)，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

1.產(chǎn)品概述：

高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)可以在粉末顆粒狀樣品表面鍍制金屬膜、磁性膜、絕緣膜等，采用行業(yè)的軟件控制系統(tǒng)。

2.設(shè)備用途：

可廣泛應(yīng)用于大院校、科研院所的粉末樣品表面鍍制薄膜材料的科研項(xiàng)目。

3.真空室結(jié)構(gòu):

圓筒形側(cè)開門，通常采用不銹鋼材質(zhì)制造，具備良好的密封性能

真空室尺寸:Ф450x550mm

限真空度:≤8.0E-5Pa

沉積源:永磁靶2套，φ3英寸

樣品尺寸，溫度:小型粉末顆粒狀樣品

占地面積（長x寬x高）:約1米x1.8米x2米

電控描述:全自動設(shè)備電控系統(tǒng)和控制系統(tǒng)：采用計(jì)算機(jī)控制，具有液晶顯示屏、鼠標(biāo)鍵盤操作界面，支持自動控制和手動控制兩種方式，操作簡便，并可實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過程的全自動化操作。