KS-S300-E 單片濕法刻蝕機

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品標簽

濕法刻蝕

在線交流發(fā)送詢價進入商鋪同類產(chǎn)品

聯(lián)系方式：謝澤雨 查看聯(lián)系方式

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!

公司介紹 主營產(chǎn)品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術(shù)服務的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權(quán)利 29 項，軟件著作權(quán) 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。

2. 產(chǎn)品優(yōu)勢

利用位置、速度可控的擺臂噴灑化學液，可以有效的提高刻蝕均勻性
分層式反應腔體設計，可以在同一腔體中噴灑多種化學液，并能有效回收，節(jié)約化學液
疊層控制，占地面積小，多可配置4個刻蝕單元

3. 應用域：

半導體制造中濕法刻蝕工藝
封裝域中金屬層刻蝕，滿足UBM及RDL工藝要求
OLED 域中金屬及金屬氧化物（ITO/IGZO）刻蝕、緩沖層成膜的表面（SiO2）刻蝕清洗等工藝

滿足半導體制造中濕法刻蝕工藝，單片加工，適用于SiO2，SiN，Polysilicon和各種金屬層的刻蝕，清洗等工藝流程。