TDP-1200/1200A 雙面拋光機(jī)

1.  產(chǎn)品概述：

雙面拋光機(jī)是一種專(zhuān)門(mén)用于對(duì)材料兩面進(jìn)行高精度、高效率拋光處理的機(jī)械設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料及其它硬脆材料的加工過(guò)程中，以提高產(chǎn)品的表面光潔度和精度。雙面拋光機(jī)通過(guò)上下兩個(gè)拋光盤(pán)的旋轉(zhuǎn)，利用摩擦力和磨料的作用，去除工件表面的毛刺、氧化層等雜質(zhì)，從而達(dá)到拋光的目的。

2 設(shè)備用途/原理：

雙面拋光機(jī)的主要用途包括：

1. 半導(dǎo)體硅片加工：在半導(dǎo)體行業(yè)中，雙面拋光機(jī)被用于硅片的雙面拋光，以提高硅片的表面平整度和光潔度，滿足后續(xù)工藝的需求。

2. 光學(xué)玻璃加工：在光學(xué)領(lǐng)域，雙面拋光機(jī)能夠確保光學(xué)玻璃的兩面都達(dá)到光學(xué)精度，滿足精密光學(xué)儀器的要求。

3. 金屬材料加工：對(duì)于金屬材料，雙面拋光機(jī)能夠去除表面的氧化層和毛刺，提高金屬件的表面質(zhì)量和美觀度。

4. 藍(lán)寶石加工：在藍(lán)寶石等硬脆材料的加工中，雙面拋光機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)高效、高精度的拋光，滿足LED、藍(lán)寶石襯底等領(lǐng)域的需求。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

雙面拋光機(jī)具有以下特點(diǎn)：

1. 高精度：雙面拋光機(jī)能夠?qū)?duì)準(zhǔn)精度提高多達(dá)20倍，這對(duì)于精密加工領(lǐng)域具有重要意義。它能夠確保工件的兩面都達(dá)到平整度和光潔度。

2. 高效率：采用雙盤(pán)對(duì)磨的方式，能夠同時(shí)加工工件的兩面，大大提高了加工效率。此外，設(shè)備還具有自動(dòng)進(jìn)給功能，可根據(jù)加工進(jìn)度自動(dòng)調(diào)整拋光壓力和速度。

3. 多材料適用：雙面拋光機(jī)適用于多種硬脆材料的拋光，包括半導(dǎo)體硅片、磁性材料、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃、金屬材料等，具有廣泛的加工適應(yīng)性。

4. 多工藝兼容：設(shè)備支持粗拋、中拋、精拋等多種拋光工藝，能夠滿足不同加工需求。同時(shí)，采用分段加壓控制，能夠根據(jù)不同工藝要求準(zhǔn)確調(diào)整拋光壓力和速度。

綜上所述，雙面拋光機(jī)是一種高精度、高效率、多材料適用、多工藝兼容的拋光加工設(shè)備，在半導(dǎo)體、光學(xué)、金屬等多個(gè)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。

4 設(shè)備參數(shù)