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FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積
- 公司名稱(chēng) 北京瑞科中儀科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2024/10/10 9:22:32
- 訪問(wèn)次數(shù) 184
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價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合 |
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FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積
隨著LCD面板和製造所需玻璃的尺寸的增加,其製造設(shè)備也變得更大,需要越來(lái)越大的設(shè)備投資。SYSKEY針對(duì)中小尺寸的需求開(kāi)發(fā)串集的PECVD 設(shè)備,提供非晶矽(a-Si),氧化矽(SiOx),氮氧化矽(SiON),氮化矽(SiNx)和多層膜沉積。
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積
FPD-PECVD(Field Plasma Discharge Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一種電漿輔助化學(xué)氣相沉積技術(shù),它利用電場(chǎng)產(chǎn)生的等離子體來(lái)促進(jìn)化學(xué)氣相沉積過(guò)程。該技術(shù)在薄膜材料的制備中具有重要作用,特別是在大面積平板顯示(Flat Panel Display,FPD)制造領(lǐng)域。
FPD-PECVD技術(shù)通過(guò)在反應(yīng)室內(nèi)施加電場(chǎng),激發(fā)氣體分子產(chǎn)生等離子體。等離子體中的高能粒子與化學(xué)前驅(qū)體分子發(fā)生反應(yīng),形成沉積在基板上的薄膜。與傳統(tǒng)的PECVD技術(shù)相比,FPD-PECVD能夠更有效地控制等離子體的分布和能量,從而提高薄膜的質(zhì)量和均勻性。
該技術(shù)廣泛應(yīng)用于液晶顯示器(LCD)和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)面板的生產(chǎn)中,用于沉積絕緣層、導(dǎo)電層、保護(hù)層等關(guān)鍵薄膜。FPD-PECVD技術(shù)的優(yōu)化和應(yīng)用對(duì)于提升顯示面板的性能和生產(chǎn)效率具有重要意義。
應(yīng)用領(lǐng)域 | |
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配置和優(yōu)點(diǎn) | 選件 |
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