ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)

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公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
品牌 SENTECH
型號(hào)
產(chǎn)地
廠商性質(zhì) 代理商
更新時(shí)間 2024/10/10 9:50:18
訪問次數(shù) 181

產(chǎn)品標(biāo)簽

ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)等離子刻蝕機(jī)SENTECH

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公司介紹 主營(yíng)產(chǎn)品

北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數(shù)碼光學(xué)顯微鏡及相關(guān)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備研發(fā)與銷售的新型高科技公司，也專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理，為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案，北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備，其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器，以專業(yè)能力導(dǎo)向，精細(xì)工藝流程，用科學(xué)手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作，為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

公司主要產(chǎn)品包括：生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數(shù)碼顯微鏡、顯微鏡數(shù)碼相機(jī)照相接口、顯微鏡*冷光源、數(shù)碼圖像分析系統(tǒng)、測(cè)量顯微鏡、三座標(biāo)測(cè)量顯微鏡，激光細(xì)胞顯微操作拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)

公司經(jīng)銷代理品牌包括：蔡司顯微鏡，奧林巴斯顯微鏡，尼康顯微鏡，徠卡顯微鏡，國(guó)產(chǎn)各廠家顯微鏡，華粵行，基恩士，日本電，日立，布魯克，三和聯(lián)， sentech(森泰克)，SYSKEY(矽碁)， PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品，天美愛丁堡，原子光譜，氣相色譜，PE(鉑金埃爾默)全系產(chǎn)品

代理經(jīng)銷的產(chǎn)品種類包括，熒光顯微鏡，熒光顯微成像系統(tǒng)，激光捕獲顯微切割，全自動(dòng)切片掃描，三維超景深顯微系統(tǒng)，動(dòng)物超聲系統(tǒng)，3D超景深顯微鏡，形貌探測(cè)顯微鏡，蔡司共聚焦顯微鏡，全自動(dòng)數(shù)字切片掃描，病理切片掃描，激光切割顯微系統(tǒng)，立體顯微鏡，國(guó)產(chǎn)激光共聚焦顯微鏡，精準(zhǔn)醫(yī)學(xué)顯微切割，激光顯微切割系統(tǒng)，按需搭建顯微系統(tǒng)，熒光光譜儀，激光細(xì)胞顯微操作拉曼顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/光學(xué)顯微鏡/熒光顯微鏡光學(xué)儀器及設(shè)備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備其它半導(dǎo)體設(shè)備生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/PCR儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/基因測(cè)序儀生命科學(xué)儀器/分子生物學(xué)儀器/DNA合成儀半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/薄膜生長(zhǎng)設(shè)備/其它薄膜沉積設(shè)備半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設(shè)備/無(wú)掩模光刻機(jī)/直寫光刻機(jī)

公司成立伊始，即本著“以人為本，誠(chéng)信發(fā)展，合作共贏"的企業(yè)宗旨，快樂中結(jié)識(shí)新朋友，穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經(jīng)擁有一支由專業(yè)技術(shù)人員、營(yíng)銷人員和維修人員組成的強(qiáng)大隊(duì)伍，竭誠(chéng)為廣大客戶提供包括技術(shù)咨詢、產(chǎn)品配套、安裝調(diào)試、應(yīng)用指導(dǎo)、維護(hù)保養(yǎng)在內(nèi)的整套細(xì)致入微的服務(wù)。同時(shí)公司還依托中國(guó)地質(zhì)研究院、清華大學(xué)、中國(guó)農(nóng)業(yè)大學(xué)、中科院等科研院所的強(qiáng)大技術(shù)實(shí)力，特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術(shù)支持。

公司儲(chǔ)備各顯微鏡現(xiàn)貨，只要您有需求，我們就能隨時(shí)為您提供各種產(chǎn)品選配服務(wù)。公司管理層、營(yíng)銷隊(duì)伍和技術(shù)人員都具備多年的專業(yè)技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，相信我們的質(zhì)量和服務(wù)一定是顯微光學(xué)領(lǐng)域中無(wú)法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員，過硬的技術(shù)，優(yōu)秀的產(chǎn)品"精神，為您提供專業(yè)、及時(shí)、周到的技術(shù)服務(wù)，北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!

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顯微鏡，激光共聚焦，電鏡，x射線，激光捕獲顯微切割，熒光成像系統(tǒng)，DNA/RNA合成儀，半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備，生命科學(xué)儀器，光刻機(jī)，

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產(chǎn)地類別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥,綜合

ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)

低損傷刻蝕

由于離子能量低，離子能量分布帶寬窄，因此可以用我們的等離子體刻蝕機(jī)SI 500進(jìn)行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。

高速刻蝕

對(duì)于具有高深寬比的高速硅基MEMS刻蝕，光滑的側(cè)壁可以通過室溫下氣體切換工藝或低溫工藝即可很容易地實(shí)現(xiàn)。

自主研發(fā)的ICP等離子源

三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能，非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。

動(dòng)態(tài)溫度控制

在等離子體刻蝕過程中，襯底溫度的設(shè)定和穩(wěn)定性對(duì)于實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量蝕刻起著至關(guān)重要的作用。動(dòng)態(tài)溫度控制的ICP襯底電極結(jié)合氦氣背冷和基板背面溫度傳感，可在-150°C至+400°C的廣泛溫度范圍內(nèi)提供了優(yōu)良的工藝條件。

SI 500為研發(fā)和生產(chǎn)提供的電感耦合等離子體(ICP)工藝設(shè)備。ICP-RIE等離子刻蝕機(jī)基于ICP等離子體源PTSA，動(dòng)態(tài)溫度控制的襯底電極，全自動(dòng)控制的真空系統(tǒng)，使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的的SETECH控制軟件和用于操作SI 500的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是SI 500主要的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。

SI 500 ICP等離子刻蝕機(jī)，可以用于加工各種各樣的襯底，從直徑高達(dá)200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件，并且切換工藝非常容易。

SI 500 ICP等離子刻蝕機(jī)，通過配置可用于刻蝕不同材料，包括但不于例如三五族化合物半導(dǎo)體(GaAs, InP, GaN, InSb)，介質(zhì)，石英，玻璃，硅和硅化合物(SiC, SiGe),還有金屬等。

SENTECH提供用戶不同級(jí)別的自動(dòng)化程度，從真空片盒載片到一個(gè)工藝腔室到六個(gè)工藝模塊端口，可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng)，目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 ICP等離子刻蝕機(jī)也可用作多腔系統(tǒng)中的工藝模塊。