Kessel® Pishow® M 8英寸金屬刻蝕設(shè)備

1. 系統(tǒng)特性

Kessel® Pishow® M 金屬刻蝕設(shè)備是面向8英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備

設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）、去膠腔（stripchamber）、冷卻腔（cooling chamber）、傳輸模塊（transfer module）構(gòu)成適用于0.11微米及其它技術(shù)代的鋁墊刻蝕及鎢回刻（W Recess）工藝也可換用6英寸ESC。

2. 工藝數(shù)據(jù)

鋁墊刻蝕

鋁線工藝

鎢塞刻蝕 

3. 詳細(xì)介紹

Kessel™ Pishow® M 金屬刻蝕設(shè)備為可用于8英寸的IC產(chǎn)線鋁金屬工藝的量產(chǎn)型機臺，基于自有開發(fā)的優(yōu)化設(shè)計，保證了優(yōu)異的刻蝕均勻性（片內(nèi)<8%，片間<5%）和顆?？刂?。在4微米厚鋁刻蝕工藝中，可以提供8000片/月的產(chǎn)能。

該設(shè)備高性價比的解決方案和優(yōu)秀的空間利用率，可為客戶產(chǎn)能升提供幫助。