MS450 多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

1.產(chǎn)品概述

MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)由沈陽(yáng)科友儀器等制造商生產(chǎn)，是一款集高真空、多靶材、磁控濺射技術(shù)于一體的鍍膜設(shè)備。該系統(tǒng)能夠在所需基材上沉積多種類型的涂層，包括耐磨損涂層、自潤(rùn)滑涂層、抗腐蝕涂層、抗高溫氧化涂層、透明導(dǎo)電涂層等，廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等。

2.產(chǎn)品組成

MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由以下幾個(gè)部分組成：

真空室：提供高真空環(huán)境，確保鍍膜過(guò)程中的氣體分子干擾小化。

濺射靶槍：內(nèi)置多種靶材，如金屬、陶瓷等，通過(guò)磁控濺射技術(shù)將靶材原子濺射到基材表面。

濺射電源：提供穩(wěn)定的電源供應(yīng)，支持直流(DC)、中頻(MF)、射頻(RF)等多種濺射模式。

加熱樣品臺(tái)：用于加熱基材，提高鍍膜質(zhì)量和附著力。

流量控制系統(tǒng)：精確控制工藝氣體的流量和壓強(qiáng)，確保鍍膜過(guò)程的穩(wěn)定性和可控性。

真空獲得系統(tǒng)：包括真空泵等組件，用于將真空室抽至高真空狀態(tài)。

真空測(cè)量系統(tǒng)：實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)真空室內(nèi)的氣體壓力等參數(shù)。

氣路系統(tǒng)：用于向真空室內(nèi)通入工藝氣體，如氬氣等。

PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)設(shè)備的自動(dòng)化控制和操作，提高工作效率和鍍膜質(zhì)量。

3.工作原理

MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的工作原理基于磁控濺射技術(shù)。在鍍膜過(guò)程中，電子在電場(chǎng)的作用下飛向基片，并與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子。Ar正離子在電場(chǎng)的作用下加速飛向陰靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。濺射出的靶原子或分子在基片表面沉積成膜。同時(shí)，二次電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用下產(chǎn)生E×B漂移，被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)，電離出更多的Ar正離子來(lái)轟擊靶材，從而實(shí)現(xiàn)高的沉積速率。

4.技術(shù)特點(diǎn)

多靶材選擇：支持多種靶材的濺射鍍膜，滿足不同材料的鍍膜需求。

高真空環(huán)境：提供高真空環(huán)境，確保鍍膜過(guò)程的穩(wěn)定性和鍍膜質(zhì)量。

高精度控制：通過(guò)PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)設(shè)備的精確控制和操作。

高沉積速率：利用磁控濺射技術(shù)實(shí)現(xiàn)高的沉積速率和均勻的膜層質(zhì)量。

廣泛適用性：適用于金屬、陶瓷、玻璃等多種基材的鍍膜處理。

5.應(yīng)用域

MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于以下域：

材料科學(xué)：用于開(kāi)發(fā)納米單層、多層及復(fù)合膜層等新型材料。

電子工程：制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜等電子材料，應(yīng)用于太陽(yáng)能電池、OLED等域。

工業(yè)生產(chǎn)：在汽車零部件、航空航天器件等域制備耐磨損、抗腐蝕等高性能涂層。

綜上所述，MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)以其先進(jìn)的技術(shù)特點(diǎn)和廣泛的應(yīng)用域，在材料科學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中發(fā)揮著重要作用。