Amod物理氣相沉積平臺
- 公司名稱 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Angstrom
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/9/5 17:10:22
- 訪問次數(shù) 121
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1 產(chǎn)品概述:
物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,簡稱PVD)平臺是一種利用物理方式將材料從源頭蒸發(fā)或濺射到基底表面進(jìn)行薄膜制備的先進(jìn)設(shè)備。該技術(shù)通過高速粒子的撞擊,將材料從固態(tài)或液態(tài)轉(zhuǎn)化為氣態(tài),并沉積在基底上形成薄膜。PVD平臺廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、電子、航空航天、生物醫(yī)學(xué)等多個領(lǐng)域,是材料科學(xué)和現(xiàn)代工業(yè)中關(guān)鍵工藝設(shè)備。
2 設(shè)備用途:
半導(dǎo)體行業(yè):在半導(dǎo)體材料表面沉積一層或多層薄膜,以制備晶體管、集成電路等半導(dǎo)體器件,提高器件性能和穩(wěn)定性。
光學(xué)領(lǐng)域:在光學(xué)元件表面沉積光學(xué)薄膜,改變其光學(xué)性能,如反射率、透過率和折射率等,滿足特定光學(xué)需求。
航空航天:在航空航天部件表面沉積耐磨、耐腐蝕、耐高溫的薄膜,提高部件的使用壽命和安全性。
生物醫(yī)學(xué):在醫(yī)療器械表面沉積生物相容性好的薄膜,提高器械的生物相容性和耐腐蝕性。
數(shù)據(jù)存儲:在硬盤、光盤等數(shù)據(jù)存儲介質(zhì)表面沉積薄膜,提高存儲密度和讀寫速度。
3 設(shè)備特點
高精度與高質(zhì)量:PVD平臺能夠制備出高精度、高質(zhì)量的薄膜,滿足各種精密加工需求。
多功能性:支持多種鍍膜方式,如蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、脈沖激光沉積等,滿足不同材料的鍍膜需求。
高靈活性:設(shè)備設(shè)計靈活,可根據(jù)具體需求進(jìn)行定制,適應(yīng)不同尺寸和形狀的基底。
高真空環(huán)境:設(shè)備在高度真空環(huán)境下工作,減少雜質(zhì)污染,保證薄膜的純凈度和質(zhì)量。
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng),以下是其一些技術(shù)特點和應(yīng)用:
技術(shù)參數(shù)和特點:
具有 500mm×500mm 的基片臺,可容納多達(dá) 8 個源,能適應(yīng)多種物理氣相沉積工藝,也可配置以達(dá)到超高真空(UHV)環(huán)境。
沉積源選項豐富,包括:
濺射:提供射頻(RF)、直流(DC)、脈沖直流(Pulsed DC)、高功率脈沖磁控濺射(HIPIMS)和反應(yīng)濺射等多種模式,并有圓形、線性和圓柱形陰可供選擇。
熱蒸發(fā):可使用各種舟、燈絲和坩堝加熱器,且具備自動調(diào)諧功能以確保精確的速率控制。
電子束蒸發(fā):提供多種源功率和電源選項,通過 Aeres 軟件平臺控制的可編程掃描控制器帶有配方存儲功能,扭矩感應(yīng)坩堝分度器可檢測口袋堵塞情況,Amod 腔室內(nèi)有空間容納多個電子束源。
等離子體和離子束處理:使用一系列離子源進(jìn)行清潔和薄膜增強處理,包括輝光放電等離子體清潔。
基片夾具增強功能:如階段加熱和冷卻、可變角度階段、卷對卷涂層、掩蔽快門、行星和圓頂夾具、基片偏壓等。