PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn) 8 英寸晶圓轉(zhuǎn)移、多達(dá) 8 個(gè)濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。PVD 系列在全球擁有 500 多臺設(shè)備，是一種成熟、堅(jiān)固且多功能的設(shè)計(jì)，由 PVD 75 和 200 平臺組成。PRO Line PVD 200 建立在原始設(shè)計(jì)的成功基礎(chǔ)上，改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時(shí)間。技術(shù)的腔室設(shè)計(jì)、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動基板加載以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新的設(shè)計(jì)提供的一些關(guān)鍵優(yōu)勢。®

PRO Line PVD 200 與以下技術(shù)兼容：

• 熱蒸發(fā)（最多六艘 4 英寸的獨(dú)立船）

• TORUS 磁控濺射源（最多 8 個(gè) 2“ 或 3” 源）®

• 電子束蒸發(fā)源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）

• LTE10 有機(jī)沉積源（最多兩個(gè)）

• 上述技術(shù)的組合也可用。

• 可根據(jù)要求提供定制配置

KJLC的軟件允許用戶友好的配方創(chuàng)建，以及一個(gè)可靠、不間斷的處理模塊，無論計(jì)算機(jī)用戶界面的狀態(tài)如何，都可以完成過程。有關(guān)此直觀、可靠的軟件包的更多信息，請參閱“軟件”選項(xiàng)卡。

PRO Line PVD 200 在其工藝室中提供四種類型的高真空泵，一個(gè) Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵（標(biāo)準(zhǔn)），以及可選的 1250L/s Pfeiffer 渦輪分子泵、Brooks CTI-8F 1500 L/s 或 3000 L/s 低溫泵。普發(fā)渦輪分子泵是實(shí)現(xiàn)整體成本效益高質(zhì)量泵送的不錯選擇，尤其適用于濺射應(yīng)用。Brook CTI 低溫泵可用于需要盡可能低的真空度的應(yīng)用，特別是熱蒸發(fā)和電子束應(yīng)用。

右圖顯示了配備的 PRO Line PVD 200 工藝室按泵類型劃分的平均預(yù)期泵送性能，該工藝室清潔干燥，安裝了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工管線。