PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺

Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實現(xiàn) 8 英寸晶圓轉移、多達 8 個濺射陰極和 eKLipse 高級控制軟件。PVD 系列在全球擁有 500 多臺設備，是一種成熟、堅固且多功能的設計，由 PVD 75 和 200 平臺組成。PRO Line PVD 200 建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統(tǒng)基礎壓力和抽空時間。技術的腔室設計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、自動基板加載以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能是這種創(chuàng)新的設計提供的一些關鍵優(yōu)勢。®

PRO Line PVD 200 與以下技術兼容：

• 熱蒸發(fā)（最多六艘 4 英寸的獨立船）

• TORUS 磁控濺射源（最多 8 個 2“ 或 3” 源）®

• 電子束蒸發(fā)源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）

• LTE10 有機沉積源（最多兩個）

• 上述技術的組合也可用。

• 可根據(jù)要求提供定制配置

KJLC的軟件允許用戶友好的配方創(chuàng)建，以及一個可靠、不間斷的處理模塊，無論計算機用戶界面的狀態(tài)如何，都可以完成過程。有關此直觀、可靠的軟件包的更多信息，請參閱“軟件”選項卡。

PRO Line PVD 200 在其工藝室中提供四種類型的高真空泵，一個 Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵（標準），以及可選的 1250L/s Pfeiffer 渦輪分子泵、Brooks CTI-8F 1500 L/s 或 3000 L/s 低溫泵。普發(fā)渦輪分子泵是實現(xiàn)整體成本效益高質(zhì)量泵送的不錯選擇，尤其適用于濺射應用。Brook CTI 低溫泵可用于需要盡可能低的真空度的應用，特別是熱蒸發(fā)和電子束應用。

右圖顯示了配備的 PRO Line PVD 200 工藝室按泵類型劃分的平均預期泵送性能，該工藝室清潔干燥，安裝了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工管線。