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Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng),軟件著作權(quán) 14 項(xiàng),是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。








冷熱臺(tái),快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述:

12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺(tái)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜等組成。傳輸模塊將晶圓傳送到位置,可同時(shí)傳送50片,工藝模塊用于清洗和蝕刻,藥液供給模塊用于高精度藥液配比、加熱、供給、濃度監(jiān)測(cè)。

2. 設(shè)備應(yīng)用

晶圓尺寸

12英寸

適用材料

光阻、單晶硅、多晶硅、氧化硅、氮化硅、金屬膜、金屬氧化物

適用工藝

爐前、刻蝕/拋光后清洗、光阻、金屬氧化物、氮化物去除、控?fù)跗厥?/span>

適用領(lǐng)域

集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示

3. 特色參數(shù):

清洗槽數(shù)量:通常具有多個(gè)清洗槽,以實(shí)現(xiàn)不同的清洗工藝步驟,例如可能有多個(gè)化學(xué)清洗槽、純水沖洗槽等。

 12英寸槽式清洗設(shè)備清洗方式:可支持多種清洗方式,如化學(xué)清洗、兆聲清洗等,以有效去除晶圓表面的各種污染物。

 溫度控制:具備精確的溫度控制能力,可在一定溫度范圍內(nèi)對(duì)清洗液或工藝過程進(jìn)行溫度調(diào)節(jié),滿足不同清洗工藝的需求。

 工藝時(shí)間:能夠?qū)γ總€(gè)清洗步驟的時(shí)間進(jìn)行精確設(shè)定和控制,確保清洗效果的一致性。

 晶圓尺寸:適用于 12 英寸晶圓清洗,能很好地滿足大尺寸晶圓的清洗要求。

 自動(dòng)化程度:具有較高的自動(dòng)化水平,可實(shí)現(xiàn)晶圓的自動(dòng)傳輸、定位和清洗過程的自動(dòng)控制,提高生產(chǎn)效率和減少人為操作誤差

4. 設(shè)備特點(diǎn)

可配備多藥液工藝槽,支持DIO?等附屬功能

軟件量身定制,具備快速更新能力

較高的溫度控制穩(wěn)定性

超高的補(bǔ)水精度

精準(zhǔn)的蝕刻速率控制

優(yōu)秀的干燥效果





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