CY-MSZ180-I-DC-SS 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀
參考價 | ¥ 200000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CY-MSZ180-I-DC-SS
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠商性質 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/12/3 15:59:09
- 訪問次數(shù) 35
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
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應用領域 | 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
樣品臺尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶,可調角度 |
靶材尺寸 | 直徑2英寸,厚度≦3mm, | 濺射功率 | 500W |
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種常見的物理氣相沉積(PVD)技術,用于制備各種薄膜材料。其工作原理是使用一種叫做磁控濺射的技術,將高純度的金屬或合金靶材濺射生成離子和中性原子,并將它們沉積在基底上形成薄膜。在這種濺射系統(tǒng)中,使用單個靶材,通常是金屬或合金的圓盤形,通過在靶材上施加高電壓和磁場,將靶材表面的粒子加速并噴向基底。由于基底通常是經(jīng)過高溫處理過的,因此濺射的金屬粒子會快速擴散并形成均勻的薄膜。
為了增加濺射速率和膜質量,光纖繞絲技術被引入其中。在光纖繞絲技術中,將纖維繞在靶材和基底之間,形成一條薄薄的縫隙。通過調整靶材和基底之間的距離并控制濺射能量,可以更加**地控制沉積在基底上的薄膜的厚度和組成。
單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層。
這種濺射系統(tǒng)非常適合制備高質量、高純度、均勻性好的金屬和合金薄膜,廣泛應用于微電子、光學、電池、太陽能電池等領域。
1. 光學薄膜制備:用于制作高反射、抗反射等光學薄膜。
2. 電子器件制備:用于制備半導體器件、導電膜等。
3. 光學器件制備:用于制備太陽能電池、液晶顯示器、LED等器件。
4. 防護涂層制備:用于制備具有防水、防油、防紫外線、防磨損等性能的涂層。
總的來說,單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀廣泛應用于科研和工業(yè)領域中的薄膜制備。
光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù):
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ180-I-DC-SS | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機功率 | 2kw | |
繞絲機構 | 尺寸 | Φ15mmx245mm |
繞絲速度 | 1-300r/min | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2 英寸x1 |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | Φ213mm X 307mm |
觀察窗口 | φ80mm | |
開啟方式 | 上頂開式、左側開式 | |
腔體材料 | 不銹鋼 304 | |
電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1 臺 |
輸出功率 | ≤300W | |
匹配方式 | 自動匹配 | |
水冷系統(tǒng) | 水箱容積 | 9L |
流量 | 10L/min | |
供氣系統(tǒng) | 類型 | 手動微量調節(jié)閥 |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 雙極旋片泵 |
抽速 | 1.1L/s | |
次級泵 | 渦輪分子泵 | |
抽速 | 60L/s | |
抽氣口 | ISO63 | |
出氣口 | KF16 | |
真空計 | 復合真空計 |