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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設備>其它實驗室常用設備>鍍膜機>CY-MSZ180-I-DC-SS 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀

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CY-MSZ180-I-DC-SS 光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀

參考價 200000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSZ180-I-DC-SS
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/3 15:59:09
  • 訪問次數(shù) 35

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設備、熒光粉燒結設備、氧化鋯生物陶瓷燒結、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設備。主要產(chǎn)品有:微波燒結爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應爐、氧化鋯燒結爐、熒光粉燒結爐、晶體退火爐、電池材料燒結爐、旋轉管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內外多所高校和科研單位建立起了合作關系;公司還聘請了多位國內外重點高校的教授,博導為公司常年的技術顧問,他們時刻與國內外學術界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術團隊為您量身定做!如果您正在為故障設備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責到底。鄭州成越科學儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導和業(yè)務洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應用領域 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,可調角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 500W

光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀是一種常見的物理氣相沉積(PVD)技術,用于制備各種薄膜材料。其工作原理是使用一種叫做磁控濺射的技術,將高純度的金屬或合金靶材濺射生成離子和中性原子,并將它們沉積在基底上形成薄膜。在這種濺射系統(tǒng)中,使用單個靶材,通常是金屬或合金的圓盤形,通過在靶材上施加高電壓和磁場,將靶材表面的粒子加速并噴向基底。由于基底通常是經(jīng)過高溫處理過的,因此濺射的金屬粒子會快速擴散并形成均勻的薄膜。

為了增加濺射速率和膜質量,光纖繞絲技術被引入其中。在光纖繞絲技術中,將纖維繞在靶材和基底之間,形成一條薄薄的縫隙。通過調整靶材和基底之間的距離并控制濺射能量,可以更加**地控制沉積在基底上的薄膜的厚度和組成。

單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層。

這種濺射系統(tǒng)非常適合制備高質量、高純度、均勻性好的金屬和合金薄膜,廣泛應用于微電子、光學、電池、太陽能電池等領域。

1. 光學薄膜制備:用于制作高反射、抗反射等光學薄膜。

2. 電子器件制備:用于制備半導體器件、導電膜等。

3. 光學器件制備:用于制備太陽能電池、液晶顯示器、LED等器件。

4. 防護涂層制備:用于制備具有防水、防油、防紫外線、防磨損等性能的涂層。

總的來說,單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀廣泛應用于科研和工業(yè)領域中的薄膜制備。


光纖繞絲單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù):

產(chǎn)品型號

CY-MSZ180-I-DC-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kw

繞絲機構

尺寸

Φ15mmx245mm

繞絲速度

1-300r/min

磁控濺射頭

數(shù)量

2 英寸x1

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

Φ213mm X 307mm

觀察窗口

φ80mm

開啟方式

上頂開式、左側開式

腔體材料

不銹鋼 304

電源配置

直流電源數(shù)量

1 臺

輸出功率

≤300W

匹配方式

自動匹配

水冷系統(tǒng)

水箱容積

9L

流量

10L/min

供氣系統(tǒng)

類型

手動微量調節(jié)閥

真空系統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵

抽速

1.1L/s

次級泵

渦輪分子泵

抽速

60L/s

抽氣口

ISO63

出氣口

KF16

真空計

復合真空計







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