化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)>CY-MSZ180-I-DC-Q 下置四靶磁控濺射鍍膜儀
CY-MSZ180-I-DC-Q 下置四靶磁控濺射鍍膜儀
參考價(jià) | ¥ 80000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CY-MSZ180-I-DC-Q
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/12/20 16:52:10
- 訪問(wèn)次數(shù) 21
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬(wàn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,建材,電子,冶金 |
簡(jiǎn)單介紹:
四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜。
詳情介紹:
我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀,設(shè)備配有兩臺(tái)直流電源,兩臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn),鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。
下置四靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置布局,樣品臺(tái)在上方,與靶面高度可通過(guò)程序**可調(diào),并且可旋轉(zhuǎn)加熱,性能優(yōu)異。
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 下置四靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH500X-Ⅳ-DCDCRFRF-SS | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
極限真空度 | 5x10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 尺寸 | 150mm |
高度 | 上下70mm**可調(diào) | |
加熱溫度 | ≤850℃ | |
轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm | |
磁控濺射頭參數(shù) | 數(shù)量 | 4個(gè)2”磁控濺射頭 |
冷卻方式 | 水冷,所需流速10L/min | |
水冷機(jī)規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ500mm X550mm H |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
觀察窗口 | φ100mm | |
開(kāi)啟方式 | 前開(kāi)門(mén)式 | |
氣體流量控制器 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM Ar; | |
真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng),抽速1200L/S | |
膜厚儀 | 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái),分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源2臺(tái),500W,適用于制備金屬膜 射頻電源2臺(tái),500W,適用于非金屬鍍膜 | |
操作方式 | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
整機(jī)尺寸 | 1250mm X 1000mm X2000mm | |
整機(jī)重量 | 500kg |