離子污染測(cè)試儀是專(zhuān)業(yè)為PCB電路板焊接測(cè)試設(shè)計(jì)的清潔度測(cè)試儀和離子污染度測(cè)試系統(tǒng),是第一臺(tái)ROSE和PICT離子污染測(cè)試儀。
離子污染測(cè)試儀盡管通常被稱(chēng)為“清潔度測(cè)試"，但Contanamimeter實(shí)際上是一種用于測(cè)量離子污染的工具。40多年來(lái)，該測(cè)試方法一直被*為電子電路板、組件和組件制造中的重要質(zhì)量保證和過(guò)程控制工具。
國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)IPC-J-STD001規(guī)定，組件的清潔度應(yīng)小于1.5µg/cm2的NaCl當(dāng)量。然而，新的設(shè)計(jì)與Gen3系統(tǒng)引入的新過(guò)程控制指標(biāo)有關(guān)：過(guò)程離子污染測(cè)試（PICT）。CM+系列根據(jù)所有現(xiàn)有測(cè)試方法（通常稱(chēng)為ROSE測(cè)試）以及新的PICT測(cè)試來(lái)測(cè)量離子污染量。
離子污染測(cè)試儀有5種不同的型號(hào)和5種不同的油箱尺寸——在選擇測(cè)試系統(tǒng)時(shí)，為被測(cè)電路使用盡可能最小的油箱尺寸非常重要。
所有離子污染測(cè)試儀系列均采用純金測(cè)試單元、彈道放大器和強(qiáng)勁的泵送系統(tǒng)，以確保即使在非常低的電導(dǎo)率值下，也能達(dá)到的測(cè)量精度?；赑C的軟件用于根據(jù)現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)使用測(cè)試方法生成圖形測(cè)試數(shù)據(jù)、通過(guò)/失敗分析和自動(dòng)硬拷貝打印。
在與羅伯特·博世（Robert Bosch）的一項(xiàng)合作研究中，離子污染測(cè)試儀CM+范圍已被證明符合6西格瑪標(biāo)準(zhǔn)，并在全球不同的生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)使用了驗(yàn)證程序。CM+系統(tǒng)作為一種工藝工具，可用于優(yōu)化制造技術(shù)和材料，并在全球不同生產(chǎn)地點(diǎn)進(jìn)行制造控制，具有高度的確定性。
新的離子污染測(cè)試儀CM+系列包括以下內(nèi)容：
離子污染測(cè)試儀特點(diǎn)
六西格瑪（6σ）作為過(guò)程控制工具得到驗(yàn)證
僅需3分鐘即可完成測(cè)試周期
高流體循環(huán)率，確保快速去除PCBA中的離子污染物，同時(shí)始終提供平滑、無(wú)氣泡的循環(huán)
曲線擬合分析算法（擬合優(yōu)點(diǎn)），用于預(yù)測(cè)較長(zhǎng)測(cè)試的結(jié)果
純金測(cè)量單元，彈道放大器，測(cè)試精度<0.005mS/cm
精確測(cè)量，即使測(cè)試溶液與測(cè)試表面積的比例很大
二氧化碳補(bǔ)償功能，消除污染結(jié)果中大氣污染的任何影響
自動(dòng)溫度補(bǔ)償
通常在6分鐘內(nèi)*再生
新系列PCB/組件處理框架，帶有集成排水系統(tǒng)
符合所有國(guó)際和MIL規(guī)范的措施舊的和新的
所有離子污染測(cè)試儀CM+系統(tǒng)均已證明儀表R&R（重復(fù)性和可靠性）為~2%
離子污染測(cè)試儀系統(tǒng)的精確度、靈敏度、線性度、精密度和可重復(fù)性都要高得多