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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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M6SpinCoater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作，簡單易用。M6SpinCoater外形美觀...
干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng)，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過...
WS-1000WetStation濕法刻蝕設(shè)備，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備，WS...
EDC-650系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累，通過對(duì)各路試劑注射的準(zhǔn)確控制，...
MR200晶圓劃片機(jī)手動(dòng)劃線可準(zhǔn)確切割結(jié)構(gòu)化硅晶片的制造MR200的設(shè)置可為結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制備。MR200還適用于少量芯片的單芯片...
Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。*移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。*清洗ATR元...
臺(tái)式狹縫涂布機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，價(jià)格實(shí)惠，使用簡單。體積小巧，但外殼堅(jiān)固，系統(tǒng)準(zhǔn)確度高-對(duì)于那些希望在小型實(shí)驗(yàn)室中擴(kuò)大其加工技術(shù)的人來說，它是非常棒的選擇。狹縫涂布系統(tǒng)為您的研究提供以下益處：?不銹鋼槽模頭為...
鈣鈦礦太陽能電池涂膜工藝行業(yè)內(nèi)Laurell勻膠機(jī)/SpinCoater，從1985年開始，30多年，用戶過百萬！應(yīng)用于鈣鈦礦太陽能電池薄膜制備，現(xiàn)當(dāng)前型號(hào)WS-650-23B勻膠機(jī)，在許多實(shí)驗(yàn)室可找...
