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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡單介紹：SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對(duì)8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案，針對(duì)10英寸晶圓片。 產(chǎn)品型號(hào)：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡單介紹：UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。 產(chǎn)品型號(hào)：CESx124 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
