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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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聯(lián)系電話(huà)
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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為了獲得大的過(guò)程可靠性，在涂覆SU-82000抗蝕劑之前，基材應(yīng)清潔干燥。為了獲得很好的結(jié)果，應(yīng)使用食人魚(yú)濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后用去離子水沖洗。基材也可以使用反應(yīng)離子蝕刻進(jìn)...
光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡(jiǎn)要介紹關(guān)于光刻膠的顯影過(guò)程和光刻工藝處理的一些相關(guān)內(nèi)容。光刻工藝可用五個(gè)指標(biāo)來(lái)衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對(duì)準(zhǔn)精度、缺陷率和硅片加工過(guò)程處理問(wèn)題，其中有3個(gè)...
Laurell高精度WS-650-8型勻膠旋涂?jī)x，可滿(mǎn)足Z大200mm直徑的晶圓片和7"×7"(178mm×178mm)的方片的高精度涂敷。勻膠機(jī)(英文名：SpinCoater)適合半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍...
HarrickPlasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。Harrick等離...
4122手動(dòng)加熱型壓片機(jī)主要特點(diǎn)帶數(shù)字溫度控制和安全防護(hù)罩的加熱型壓片機(jī)CARVER手動(dòng)加熱型壓片機(jī)，配有程序控溫模塊，安全視窗。Z高壓力包括12噸、25噸和30噸三個(gè)型號(hào)。廣泛適用于各種材料的成型、...
帶數(shù)字溫度控制和安全防護(hù)罩的加熱型壓片機(jī)CARVER手動(dòng)加熱型壓片機(jī)，配有程序控溫模塊，安全視窗。高壓力包括12噸、25噸和30噸三個(gè)型號(hào)。廣泛適用于各種材料的成型、層壓、壓紋及黏結(jié)等。4386(CH...
M6SpinCoater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無(wú)刷直流雙向旋轉(zhuǎn)馬達(dá)控制，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機(jī)界面操作，簡(jiǎn)單易用。M6SpinCoater外形美觀...
干涉儀是利用干涉原理測(cè)量光程之差從而測(cè)定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng)，而某一束相干光的光程變化是由它所通過(guò)的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起，所以通過(guò)...
WS-1000WetStation濕法刻蝕設(shè)備，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設(shè)備，WS...
EDC-650系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過(guò)程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累，通過(guò)對(duì)各路試劑注射的準(zhǔn)確控制，...
MR200晶圓劃片機(jī)手動(dòng)劃線可準(zhǔn)確切割結(jié)構(gòu)化硅晶片的制造MR200的設(shè)置可為結(jié)構(gòu)化硅晶片切割提供高精度劃線。MR200是*的工具，特別是對(duì)于半導(dǎo)體技術(shù)中的REM制備。MR200還適用于少量芯片的單芯片...
Harrick等離子體表面處理儀的應(yīng)用范圍：*清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。*移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。*清洗ATR元...
