邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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MEMA-800光刻機(jī)Mask Aligner
光刻機(jī)Mask Aligner
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) MEMA-800
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時(shí)間:2024-05-17 11:06:38瀏覽次數(shù):1904

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【簡(jiǎn)單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,地礦,電子
MYCRO*荷蘭光刻機(jī)(光刻機(jī)Mask Aligner),是的光刻系統(tǒng),為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng),廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體(LED)芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域。
【詳細(xì)說明】

光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。MEMA-800是研發(fā)中心和大學(xué)中的微機(jī)開發(fā)操縱器,壓力傳感器,加速度傳感器,功率設(shè)備等。倒裝芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光學(xué)/高速通信組件中。

二、技術(shù)參數(shù):

1、目標(biāo)分離15?75毫米;

2、總放大倍率100倍

3、觀察照明器紅色LED(λ= 633 nm)

4、X,Y平臺(tái)移動(dòng)范圍±5毫米;

5、θ調(diào)整±5°

6、主體電源和水銀燈交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源低于21.3 Kpa(大氣壓為-80 Kpa)

8、鏡片:積分鏡

9、汞燈:250W超高壓蒸汽汞燈

10、有效接觸面積:大φ100毫米

11、強(qiáng)度分布:±5%以下

12、照度20 mW / cm 2  (405納米)

13、曝光時(shí)間控制數(shù)字計(jì)時(shí)器和旋轉(zhuǎn)螺線管

14、汞燈照明裝置交流110V

 

三、產(chǎn)品特點(diǎn):

經(jīng)濟(jì),緊湊和高級(jí)性能
在視場(chǎng)中查看兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的融合圖像。
用于曝光的積分鏡。
LED照明器



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