邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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葉盛
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洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
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M-150和P-150韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
韓國(guó)Mask Aligner光刻機(jī)
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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) M-150和P-150
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 武漢市

更新時(shí)間:2024-05-17 12:02:57瀏覽次數(shù):1866

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【簡(jiǎn)單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。
【詳細(xì)說(shuō)明】

M-150

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。M系列是用于光刻的掩模對(duì)準(zhǔn)器。M-150專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個(gè)350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ??捎糜谏虡I(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。


技術(shù)參數(shù)

類型

PLC手動(dòng)控制系統(tǒng)

波長(zhǎng)

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大7英寸

紫外光強(qiáng)度

15 ~ 25/ ?

基片尺寸

6英寸

紫外線光束均勻度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ?

接觸模式

真空/硬/軟/接近

對(duì)準(zhǔn)精度

1 ?

顯微鏡

CCD變焦顯微鏡

紫外燈和電源

350W

選配項(xiàng)

Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA


P-150

光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體或玻璃基板上的光學(xué)技術(shù)。P-150專為6英寸晶圓設(shè)計(jì),具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個(gè)350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導(dǎo)體制造或大學(xué)實(shí)驗(yàn)室晶圓制造以及MEMS領(lǐng)域。


技術(shù)參數(shù)

類型

觸摸屏PC手動(dòng)控制系統(tǒng)

波長(zhǎng)

350 ~ 450 nm

掩膜版尺寸

最大7x7英寸

紫外光強(qiáng)度

15 ~ 25/ ?

基片尺寸

6英寸

紫外線光束均勻度

3 ~ 5 %

分辨率

1 ?

接觸模式

真空/硬/軟/接近

對(duì)準(zhǔn)精度

1 ?

顯微鏡

CCD變焦顯微鏡

紫外燈和電源

350W

選配項(xiàng)

IR BSA, CCD BSA




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