邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

探針臺(tái)

光學(xué)膜厚儀

原子層沉積系統(tǒng)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測(cè)角儀

程序剪切儀

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

干冰清洗機(jī)

注射泵

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
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    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
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    [供應(yīng)]Tergeo-Plus-美國(guó)臺(tái)式等離子清洗機(jī)
    Tergeo-Plus-美國(guó)臺(tái)式等離子清洗機(jī)
    貨物所在地:
    國(guó)外
    產(chǎn)地:
    美國(guó)
    更新時(shí)間:
    2024-11-25 08:57:45
    有效期:
    2024年11月25日--2025年5月28日
    已獲點(diǎn)擊:
    258
    【簡(jiǎn)單介紹】一、Tergeo系列等離子清洗機(jī)應(yīng)用
    等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物,去除光阻膠:產(chǎn)生表面活性功能組;
    清洗提高材料表面親水性及疏水性,清洗生物芯片、微流控芯片,PDMS;
    表面活化:渲染表面的親水性或疏水性,鍵合和沉積前的表面預(yù)處理
    表面聚合:沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物,移植聚合物到活化后的材料表面;
    表面改性:在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán),高分子材料表面修飾;
    去除表面殘留微生物,醫(yī)療器械的消毒和
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    二、Tergeo系列等離子清洗機(jī)的特點(diǎn)

    1、13.56MHz高頻射頻發(fā)生器;

    2、7英寸觸摸屏控制界面,全自動(dòng)操作;

    3、標(biāo)配75W版本,可選150W版本;

    4、系統(tǒng)具有雙等離子源。浸入式等離子源用于主動(dòng)表面處理、光刻膠蝕刻。遠(yuǎn)程式等離子源用于溫和的污染清除以及脆弱易損樣品的表面活化。

     

    三、技術(shù)參數(shù)

    1、控制系統(tǒng)

    1)操作界面:7英寸電阻觸摸屏操作界面,支持多種工作方式。

    2)程序控制:可編程,總共有20個(gè)程序,每個(gè)程序有3個(gè)清潔步驟。

    2、反應(yīng)腔體

    1)腔體材質(zhì):圓柱形石英玻璃艙;

    2)腔體容積:5.6L;

    3)腔體尺寸:內(nèi)徑:160毫米,深度:280毫米。

    3、射頻電源

    1)射頻頻率:13.56MHz;

    2)射頻功率:標(biāo)配0~75W;從0瓦到75瓦之間以1瓦間距連續(xù)可調(diào),可選0~150W;。

    4、等離子源

    1)等離子強(qiáng)度探測(cè)器實(shí)時(shí)測(cè)量等離子源強(qiáng)度。

    2)外置電極設(shè)計(jì),高壓電極不合等離子接觸以避免金屬濺射造成的樣品污染。

    5、氣體控制

    1)氣路控制:標(biāo)配一路MFC;可選配三路MFC;

    2)質(zhì)量流量計(jì)可以在0~100sccm之間精確控制氣體流量;

    3)一路(Venting and purging)氣體入口用來(lái)快速給樣品室放氣和沖走殘余處理氣體。



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