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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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聯(lián)系電話
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EZI UV Nanoimprint System PL400
特點：
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率，產率高達99％
? 一步自動釋放功能，可防止分離過程中模具/基材損壞，使壓印產量大化
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸，靈活方便
? 可編程PLC，通過自定義參數(shù)進行過程控制，帶觸摸屏用戶界面
? 對準功能選項
? 多種工藝，適用于各種應用光學器件，顯示器，數(shù)據(jù)存儲，生物醫(yī)學器件，半導體IC，化學合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制，并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
EZ Imprinting處理器參數(shù)：
基材尺寸: 4“標準（尺寸較小，形狀不規(guī)則）
印記區(qū) : 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 4”,2” and 1”
