邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

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紫外臭氧清洗機(jī)

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壓片機(jī)/液壓機(jī)

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    公司信息

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    [供應(yīng)]K1050X-射頻等離子體蝕刻機(jī)
    K1050X-射頻等離子體蝕刻機(jī)
    貨物所在地：
    北京北京市
    產(chǎn)地：
    英國(guó)
    更新時(shí)間：
    2025-01-20 09:12:33
    有效期：
    2025年1月20日--2026年1月21日
    已獲點(diǎn)擊：
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    【簡(jiǎn)單介紹】射頻等離子體蝕刻機(jī)Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體（例如CF 4） 去除硅層，以及用于使用氧氣去除光刻膠。 等離子灰化是指使用氧氣或空氣對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行可控的低溫去除，其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEM和SEM樣品以及樣品支架。
    【詳細(xì)說明】

    射頻等離子體蝕刻機(jī)簡(jiǎn)介
    Quorum K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器設(shè)計(jì)用于等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用。
    射頻等離子體可對(duì)各種樣品和基板進(jìn)行低溫修飾。等離子體蝕刻通常*于半導(dǎo)體行業(yè)，因?yàn)?/span>Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體（例如CF 4） 去除硅層，以及用于使用氧氣去除光刻膠。 
    等離子灰化是指使用氧氣或空氣對(duì)有機(jī)材料進(jìn)行可控的低溫去除，其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEM和SEM樣品以及樣品支架。
    K1050X是一款現(xiàn)代的固態(tài)RF等離子桶式反應(yīng)器，旨在滿足廣泛多樣的等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清洗應(yīng)用的研發(fā)和小批量生產(chǎn)的需求。
    等離子刻蝕機(jī)
    主要特征

    • 用于RF等離子蝕刻，灰化和清潔工藝
    • 抽屜式樣品臺(tái)-輕松便捷地取放樣品
    • 微控制器：操作員*可編程-操作簡(jiǎn)便，靈活
    • 全自動(dòng)操作
    • 現(xiàn)代固態(tài)100 W 13.56 MHz射頻電源-堅(jiān)固可靠
    • 兩個(gè)氣體流量計(jì)-允許精確控制和混合工藝氣體，特別適用于等離子蝕刻工藝
    • 通風(fēng)孔控制-*小的樣品干擾-特別適用于精細(xì)的等離子體灰化樣品
    • 提供渦輪分子泵送版本（K1050XT）

    射頻等離子體蝕刻機(jī)產(chǎn)品描述

    K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器經(jīng)過精心設(shè)計(jì)，可以承受大量使用-每天24小時(shí)處理某些等離子灰化計(jì)劃-具有微處理器控制和自動(dòng)操作功能，并具有耐用性和操作簡(jiǎn)便性。各向同性（各個(gè)方向）的桶式系統(tǒng)等離子刻蝕或等離子灰化，適用于廣泛的應(yīng)用。

    K1050X使用低壓射頻感應(yīng)產(chǎn)生的氣體放電來以柔和，可控的方式修飾樣品表面或去除樣品材料。與替代方法相比的一個(gè)顯著優(yōu)勢(shì)是等離子蝕刻和灰化過程是干燥的（不需要濕化學(xué)藥品），并且在相對(duì)較低的溫度下進(jìn)行。

    使用多種工藝氣體，可以使用多種表面改性方法。使用氧氣（或空氣）作為工藝氣體，分子分解為化學(xué)活性原子和分子，并且所產(chǎn)生的“燃燒”產(chǎn)物可通過真空系統(tǒng)方便地在氣流中帶走。

    腔室，樣品處理和氣體控制

    K1050X的直徑為110毫米x 160毫米的硼硅酸鹽玻璃室水平安裝，帶有滑出式樣品抽屜和觀察窗。通過可選的50 L / m機(jī)械旋轉(zhuǎn)真空泵可以抽空腔室。反應(yīng)性氣體的進(jìn)入由兩個(gè)內(nèi)置電磁流量計(jì)控制的內(nèi)置流量計(jì)控制。
    注意：對(duì)于需要避免使用硼硅酸鹽玻璃的等離子蝕刻應(yīng)用，K1050X可以配備可選的石英腔（EK4222）。

    功率，調(diào)諧和真空監(jiān)控

    可提供在13.56 MHz時(shí)高達(dá)100 W的RF功率，可以無限地控制RF功率并將其預(yù)設(shè)為所需值。自動(dòng)調(diào)整正向和反射功率是標(biāo)準(zhǔn)配置，并顯示在數(shù)字顯示屏上。

    自動(dòng)化微處理器控制

    K1050X是全自動(dòng)的。時(shí)間，功率和真空度的控制參數(shù)易于預(yù)設(shè)，并且可以在整個(gè)過程中進(jìn)行監(jiān)視和調(diào)整。
     

    射頻功率的“自動(dòng)調(diào)諧”以實(shí)現(xiàn)*佳控制和重現(xiàn)性

    等離子過程中，“自動(dòng)調(diào)諧”功能可確保RF功率自動(dòng)與系統(tǒng)或負(fù)載的任何變化進(jìn)行阻抗匹配。這意味著將腔室內(nèi)的RFplasma條件保持在*佳狀態(tài)-這很重要，因?yàn)樗梢约涌旆磻?yīng)時(shí)間，提高結(jié)果的可重復(fù)性，并在RF周期內(nèi)保護(hù)電源。

    抽水選項(xiàng)

    K1050X僅需要添加的旋轉(zhuǎn)泵。出于安全原因，當(dāng)?shù)入x子蝕刻應(yīng)用涉及使用氧氣作為工藝氣體時(shí)，出于安全原因，強(qiáng)烈建議使用Edwards RV3 Fomblinized旋轉(zhuǎn)泵（參見  EK3176）。在需要避免使用油基旋轉(zhuǎn)泵的地方，可以選擇干式抽氣（請(qǐng)參閱：訂購(gòu)信息）。

    內(nèi)置渦輪分子泵浦的K1050XT RF等離子蝕刻機(jī)/灰砂機(jī)/清潔器

    對(duì)于需要更清潔真空環(huán)境的等離子蝕刻和等離子清潔應(yīng)用，K1050XT具有內(nèi)置的渦輪分子泵
     
    射頻等離子體的應(yīng)用
    等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用多種多樣-以下是一些示例：

    • 使用等離子灰化制備技術(shù)  檢測(cè)石棉和人造礦物纖維及石棉
    • 光刻膠和外延層的等離子蝕刻（去除）
    • 有機(jī)材料（例如環(huán)氧樹脂，過濾器，食品等）的低溫等離子灰化
    • 塑料的表面處理，實(shí)現(xiàn)了從疏水到親水的轉(zhuǎn)化
    • 我改善了塑料的油漆和上墨特性
    • 用于SEM和TEM檢查的有機(jī)樣品的等離子蝕刻和等離子灰化

    SEM，TEM和SPM部分Plasma清洗



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