邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

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超聲波清洗機(jī)

探針臺(tái)

光學(xué)膜厚儀

原子層沉積系統(tǒng)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測(cè)角儀

程序剪切儀

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

干冰清洗機(jī)

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環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙

    • 防潮箱

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    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

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    離心機(jī)

    手套箱

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    鍵合機(jī)

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    膜厚監(jiān)測(cè)儀

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    攪拌脫泡機(jī)

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    自動(dòng)涂膜器

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    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

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    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

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    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽模擬器

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    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    公司信息

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    [供應(yīng)]CESx124-進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)
    CESx124-進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)
    貨物所在地：
    北京北京市
    更新時(shí)間：
    2025-02-21 09:28:28
    有效期：
    2025年2月21日--2025年8月22日
    已獲點(diǎn)擊：
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    【簡(jiǎn)單介紹】這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。
    【詳細(xì)說明】

    簡(jiǎn)介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項(xiàng)，Megasonic噴嘴對(duì)DI H20或化學(xué)藥品的處理分配選項(xiàng)；用于化學(xué)制劑的低壓噴嘴；化學(xué)加熱器和DI-H20；用于表面攪拌以加快反應(yīng)的刷子，和/或DI H20等。

    可編程拋物線機(jī)械臂運(yùn)動(dòng)有助于確保均勻蝕刻?？焖儆行У母稍锛夹g(shù)結(jié)合了可變的旋轉(zhuǎn)速度；可選加熱DI-H20和氮?dú)廨o助。該系統(tǒng)非常安全，在接近基底之前，可以通過“漂洗至pH” 盡量減少對(duì)化學(xué)物質(zhì)的接觸。

     

    特點(diǎn)：

    • 專為重要控制和安全而設(shè)計(jì)的系統(tǒng)。
    • 多達(dá)9x9英寸/ 300mm直徑的基板兼容性。
    • 主軸組件具有直流無刷伺服電機(jī)，可實(shí)現(xiàn)精確的速度控制和分度。
    • 特氟龍涂層不銹鋼臂可調(diào)節(jié)臂速度和行進(jìn)位置。
    • 徑向排氣腔，用于大層流，蓋子頂部有N2進(jìn)料。
    • DI-H20加熱器，用于清潔和干燥輔助。
    • 過程中包含化學(xué)相容性材料PVDF或可選的PTFE。
    • 獨(dú)立式聚丙烯柜。
    • 微處理器控制功能可以在存儲(chǔ)器中保留三十（30）步的配方，每個(gè)配方有三十（30）步。配方和步驟的數(shù)量均可根據(jù)要求擴(kuò)展。
    • 內(nèi)置安全聯(lián)鎖和雙重控制。
    • 用聯(lián)鎖裝置沖洗整個(gè)工藝區(qū)域和基材的pH值，以禁止進(jìn)入工藝區(qū)域并控制排放和主軸轉(zhuǎn)速直到安全。
    • 按鈕蓋打開/關(guān)閉。
    • 觸摸屏圖形用戶界面（GUI），易于編程和安全鎖定，并帶有屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。
    • 用于化學(xué)和房屋排水的排水分流閥。
    • 設(shè)計(jì)符合SEMI S2 / S8準(zhǔn)則。

     

    技術(shù)參數(shù)：

    • 產(chǎn)品：蝕刻和剝離系統(tǒng)
    • 型號(hào)：CESx124
    • 可用機(jī)械臂：4
    • 大基板尺寸：13英寸直徑
    • 大主軸速度：2500
    • 配方：高達(dá)30
    • 分配管路：12

     

    主營(yíng)產(chǎn)品：

    Laurell勻膠機(jī)    

    Harrick等離子清洗機(jī)

    Thetametrisis膜厚儀 

    Microxact探針臺(tái)

    ALD原子層沉積系統(tǒng)

    TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機(jī)      

    Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

    Nilt納米壓印機(jī)

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)    

    Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)



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