邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

探針臺

光學(xué)膜厚儀

原子層沉積系統(tǒng)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測角儀

程序剪切儀

顯微鏡檢測系統(tǒng)

干冰清洗機(jī)

注射泵

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

韓國波導(dǎo)樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙

    • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    公司信息

    聯(lián)系人：
    鄧經(jīng)理
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    [供應(yīng)]MPEM-1600-掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner MPEM-1600
    MPEM-1600-掩膜曝光光刻機(jī)Mask Aligner MPEM-1600
    貨物所在地：
    北京北京市
    更新時間：
    2024-12-30 09:23:35
    有效期：
    2024年12月30日--2025年6月29日
    已獲點(diǎn)擊：
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    【簡單介紹】MYCRO*荷蘭光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。
    【詳細(xì)說明】

    一、產(chǎn)品簡介：

    光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。MPEM系列是高精度的雙向掩模對準(zhǔn)器，在晶片的頂側(cè)和底側(cè)包括對準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)，因此可以與頂側(cè)對準(zhǔn)對頂側(cè)表面進(jìn)行接觸，軟接觸和接近圖案化。晶片底面上的圖形。掩模和晶圓的精確對準(zhǔn)可能是通過高分辨率光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)的，該光學(xué)系統(tǒng)的頂部和底部均安裝了對稱排列的10X物鏡。由于可以調(diào)成對的物鏡之間的間隔，所以不規(guī)則形成的晶片也可以自由地對準(zhǔn)。

     

    MPEM-1600

    MPEM-12M

    MPEM-16M

    光罩尺寸

    多5英寸

    多7英寸

    多9英寸

    晶圓尺寸

    高達(dá)4英寸（無定形）

    高達(dá)6英寸（無定形）

    高達(dá)8英寸（無定形）

    面罩架滑動

    手動卡盤

    面具運(yùn)動

    X =±3毫米，Y =±3毫米

    接觸

    方法

    軟接觸/硬接觸/接近暴露

     

     

    照明

    250W超高壓蒸氣汞燈

    500W超高壓蒸氣汞燈

    照明不規(guī)則

    ±5％

    有效接觸面積

    直徑100毫米

    直徑150毫米

    直徑200毫米

    解析度

    3mµ L / S

    對準(zhǔn)

    方法

    目鏡觀察（精神領(lǐng)域系統(tǒng)）

    9英寸視頻

    監(jiān)控系統(tǒng)

    物鏡

    10X兩對（上/下）

    目鏡

    NWF 10X（一對）

    --

    總放大倍率

    100倍

    200倍

    物鏡分離

    15?90毫米

    80?140毫米

    55?184毫米

    聚焦單元

    手冊

    對準(zhǔn)范圍

    X，Y =±4mmθ
    =±22.5°

    X，Y =±4mmθ
    =±5°

    對齊間隙

    09?99微米

    對準(zhǔn)精度

    小于±5mm

    實用工具

    主機(jī)電源

    100-220V AC，50 / 60Hz，15A（600W）

    水銀燈電源

    100-220V AC，50 / 60Hz，15A（550W）

    100-220V，50 / 60Hz，15A（1,100W）

    氮?dú)?/span>

    0.4?0.5兆帕

    100-220V AC，50 / 60Hz，15A（1,100W）

    真空壓力

    小于21.3kPa
    （從大氣壓到-80kPa ）

    尺寸（主機(jī)）

    750（ 寬）x
    820（深）x
    1,700（高）mm

    940（ 寬）x
    860（
    深）x 1,670（高）mm

    1,200（ 寬）x
    1,090（深）x
    1,800（高）mm

    凈重

    大約 450公斤

    大約 550公斤

    大約 700公斤

    選件

    NWF 15X目鏡（一對）
    9英寸電視監(jiān)視器系統(tǒng)（黑白）

    --
     

     

    MPEM-1600

    MPEM-12M

    MPEM-16M

    （適用
    于直徑大為4英寸的晶片）

    （適用
    于直徑大為6英寸的晶片）

    （適用
    于直徑大為8英寸的晶片)

                            

    *除上述以外，還提供電動MPEM-2000 / 4000型和全自動MPEM-8M / 12M型。



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