邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹(shù)脂

環(huán)氧樹(shù)脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
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    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

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    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

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    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

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    有機(jī)光伏材料

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    集成電路制造的關(guān)鍵材料是什么-光刻膠

    閱讀:94 發(fā)布時(shí)間:2020/09/22

    為了獲得大的過(guò)程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應(yīng)清潔干燥。 為了獲得很好的結(jié)果,應(yīng)使用食人魚(yú)濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

    基材也可以使用反應(yīng)離子蝕刻進(jìn)行清潔

    (RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進(jìn)劑。 對(duì)于包括電鍍的應(yīng)用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對(duì)基材進(jìn)行預(yù)處理。

    涂層

    SU-8 2000抗蝕劑有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。 本加工指南文件涉及四種產(chǎn)品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

    提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉(zhuǎn)條件以實(shí)現(xiàn)所需膜厚所需的信息。

    推薦節(jié)目

    1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

    2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉(zhuǎn)5-10秒。

    3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉(zhuǎn)30秒。




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