邁可諾技術(shù)有限公司

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

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烤膠機(jī)/熱板

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

探針臺(tái)

光學(xué)膜厚儀

原子層沉積系統(tǒng)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

手持式表面分析儀

接觸角測(cè)角儀

程序剪切儀

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

干冰清洗機(jī)

注射泵

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

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    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

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    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

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    芯片熱管理分析系統(tǒng)

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    等離子清洗機(jī)常見問題及解決方法(二)

    閱讀:318 發(fā)布時(shí)間:2020/10/10

    1、按照設(shè)備操作方法規(guī)范使用設(shè)備;(如相關(guān)設(shè)備使用文檔資料遺 失可聯(lián)系我司售后工程師。) 2、留意實(shí)驗(yàn)室電壓是否穩(wěn)定,電壓不穩(wěn)可能會(huì)導(dǎo)致設(shè)備保險(xiǎn)絲熔斷 以及射頻燈源損壞; 3、定期清潔真空腔內(nèi)壁,以免內(nèi)壁上的污染物積累成為污染源; (真空腔內(nèi)壁清潔方法可參見標(biāo)準(zhǔn)實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿清潔方式,如: 可用無(wú)塵布/無(wú)塵紙蘸一點(diǎn)酒精、丙酮或異丙醇輕輕擦拭內(nèi)壁表面。 如果用標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿清洗方法不能去除污染物和污染物影 響等離子體實(shí)驗(yàn)時(shí),等離子體腔室可能需要更換。) 4、平時(shí)注意真空泵-等離子腔體尾部的管路連接件以及三通閥與艙 門的接口處是否松動(dòng),如有松動(dòng)請(qǐng)及時(shí)擰緊。 5、不建議將等離子和真空泵連續(xù)運(yùn)行時(shí)間超過(guò) 1 小時(shí)的處理,且在 處理完畢后,設(shè)備的主電源應(yīng)關(guān)閉,以防止過(guò)熱和可能的損壞; 6、配套油泵泵浦系統(tǒng)留意泵油顏色和油位變化,并及時(shí)添加和更換 泵油;配套干泵泵浦系統(tǒng)若實(shí)驗(yàn)室濕度高需要定期排水汽,使用時(shí) 間達(dá)到 5000 小時(shí)建議做一次維護(hù)保養(yǎng); 7、當(dāng)真空腔室內(nèi)處于低壓狀態(tài)時(shí),不要強(qiáng)行打開前蓋艙門,因?yàn)檫@ 會(huì)損害真空腔室。 8、請(qǐng)勿將輸入電流要求超過(guò) 7 安培的真空泵電源線插頭接入等離子 清洗機(jī)后部真空泵電源接口;




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