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EMS500離子濺射鍍膜儀(通用儀器)

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  • 海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司
  • 2017-05-17 15:45:11
  • 北京市
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【簡(jiǎn)單介紹】

離子濺射鍍膜儀(通用儀器)在陽極與陰極之間使用合適的氣體(常用的是氬氣)和電壓,當(dāng)出現(xiàn)輝光放電時(shí),陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標(biāo)材料,這個(gè)過程就叫離子濺射。

【詳細(xì)說明】

離子濺射鍍膜儀(通用儀器)簡(jiǎn)介:

什么是離子濺射鍍膜?

    在陽極與陰極之間使用合適的氣體(常用的是氬氣)和電壓,當(dāng)出現(xiàn)輝光放電時(shí),陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標(biāo)材料,這個(gè)過程就叫離子濺射。其結(jié)果是濺射出來的原子(陰極材料)將在樣本(通常樣本固定于陽極上)表面形成一層薄膜,均勻分布在樣本的表面。

    陰極材料通常使用金,習(xí)慣稱之為金靶。

EMS550離子濺射鍍膜儀(通用儀器)

    EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),可傾斜,適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè),全自動(dòng)控制保證獲得準(zhǔn)確的鍍層厚度。 低電壓濺射、冷濺射、超細(xì)顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)??蛇x靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設(shè)計(jì)在儀表板上,使用方便,滿足不同學(xué)科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設(shè)置,就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖,系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。

    本儀器為全自動(dòng)操作,可控制獨(dú)立的真空泵。

性能特征
    1、復(fù)合樣本固定器

    2、旋轉(zhuǎn)且可傾斜樣品臺(tái)

    3、全自動(dòng)控制

    4、低耗冷卻系統(tǒng),無需冷卻樣本及樣品臺(tái)

    5、低壓濺射

    6、高質(zhì)量鍍層厚度(2nm 金膜).

    7、可重復(fù)性能

    8、均勻沉積厚度(20nm或20埃)

    9、微電子控制

    10、聚碳酸脂安全殼體

性能參數(shù):

    1.儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H
    2.工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H
    3.安全鐘罩:聚碳酸酯
    4.重量:18公斤
    5.靶:60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標(biāo)準(zhǔn)靶面)
    6.樣品臺(tái)直徑為60 mm,靶面距在25mm-45mm之間可調(diào)
    7.真空范圍:ATM-1x10-2 mbar
    8.沉積電流范圍:0-50mA
    9.沉積速率:0-25nm/分
    10.濺射時(shí)間:0-4 分鐘
    11.預(yù)設(shè)置針閥:控制氬
    12.電源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)

定購說明:

貨號(hào)

產(chǎn)品名稱

規(guī)格

91000

EMS 550 Sputter Coater complete with Target

EMS550離子濺射鍍膜機(jī)

臺(tái)

91000-MA

EMS 500 Manual Sputter Coater

EMS500離子濺射鍍膜機(jī)

臺(tái)

91005

Rotary Vacuum Pump

Targets 60mm (Dia.) x 0.1mm (Thick) fitted inclusive as standard

個(gè)

注:EMS500為EMS550的的手動(dòng)型號(hào)(無旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)),其它參數(shù)均同。

    
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