晶圓探針式輪廓儀/臺階儀 返回列表頁

傳感器具有動態(tài)力控制，良好的線性，和精準的垂直分辨率等特性友好的用戶界面和自動化測量可以適配大學、研發(fā)、生產(chǎn)等不同應用場景。

KLA是全球半導體在線檢測設(shè)備市場較大的供應商，在半導體、數(shù)據(jù)存儲、 MEMS 、太陽能、光電子以及其他領(lǐng)域中有著不俗的市占率。P-7是KLA公司的第八代探針式臺階儀系統(tǒng)，作為晶圓探針式輪廓儀/臺階儀歷經(jīng)技術(shù)積累和不斷迭代更新，集合眾多技術(shù)優(yōu)勢。

二、 功能

晶圓探針式輪廓儀/臺階儀設(shè)備特點：  

臺階高度：幾納米至1000um  

微力恒力控制：0.03mg至50mg  

樣品全直徑掃描，無需圖像拼接  

視頻：500萬像素高分辨率彩色攝像機  

圓弧矯正：消除由于探針的弧形運動引起的誤差  

生產(chǎn)能力：通過測序，模式識別和SECS/GEM實現(xiàn)全自動化  

主要應用：  

薄膜/厚膜臺階  

刻蝕深度測量  

光阻/光刻膠臺階  

柔性薄膜  

表面粗糙度/波紋度表征  

表面曲率和輪廓分析  

薄膜的2DStress量測  

表面結(jié)構(gòu)分析  

表面3D輪廓成像  

缺陷表征和分析  

其他多種表面分析功能

三、應用案例

臺階高度

   P-7可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺階高度的測量。 這使其能夠量化在蝕刻，濺射，SIMS，沉積，旋涂，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。P-7具有恒力控制功能，無論臺階高度如何都可以動態(tài)調(diào)整并施加相同的微力。這保證了良好的測量穩(wěn)定性并且能夠測量諸如光刻膠的軟性材料。

紋理：粗糙度和波紋度

   P-7提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分，并計算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)。

紋理：粗糙度和波紋度

   P-7提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分，并計算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數(shù)。

應力：2D和3D薄膜應力

   P-7能夠測量在生產(chǎn)包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件期間所產(chǎn)生的應力。 使用應力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲。然后通過應用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計算應力。2D應力通過在直徑達200mm的樣品上通過單次掃描測量，無需圖像拼接。3D應力的測量采用多個2D掃描，并結(jié)合θ平臺在掃描之間的旋轉(zhuǎn)對整個樣品表面進行測量。

缺陷復檢

   缺陷復查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌。缺陷檢測設(shè)備找出缺陷并將其位置坐標寫入KLARF文件。“缺陷復檢”功能讀取KLARF文件、對準樣本，并允許用戶選擇缺陷進行2D或3D測量。