SENTECH激光橢偏儀SE800PV

紋路晶片

防反射涂層和鈍化層可以在單晶和多晶硅晶片上測量。

疊層防反射涂層

可以分析SiO2/SiNx、Al2O3/SiNx和SiNx1/SiNx2的涂層。

操作簡單

不管是專家還是初學(xué)者，光譜橢偏儀SE 800 PV都提供了簡單的操作。配方模式特別適合質(zhì)量控制所需的常規(guī)應(yīng)用。

SENTECH激光橢偏儀SE800PV

光譜橢偏儀SE 800 PV是分析結(jié)晶和多晶硅太陽能電池防反射膜的理想工具?？梢詼y量單層薄膜(SiNx、SiO2、TiO2、Al2O3)和多層疊層膜(SiNX/SiO2、SiNx1/SiNx2、SiNx/Al2O3)。

SE 800 PV是基于步進掃描分析器測量模式。步進掃描分析器模式允許將測量參數(shù)匹配到粗糙的樣本表面，同時所有光學(xué)部件都處于靜止?fàn)顟B(tài)。SE 800 PV的光源、光學(xué)部件和檢測器進行了優(yōu)化，以符合SENTECH的目標(biāo)，即快速、準(zhǔn)確地測量PV應(yīng)用的折射率指數(shù)、吸收和膜厚。

高測量靈敏度、去偏振校正和特殊的集光光學(xué)使SE 800 PV成為在粗糙樣品表面進行光伏應(yīng)用的理想儀器。

光譜橢偏儀SE 800 PV具有操作簡單的特點、便于研發(fā)應(yīng)用。SpectraRay/4，SENTECH專有的橢偏儀軟件，包括兩種操作模式。配方模式允許在質(zhì)量控制中輕松執(zhí)行常規(guī)應(yīng)用程序。交互模式具有指導(dǎo)性的圖形用戶界面，適合于研發(fā)應(yīng)用和新配方的開發(fā)。

此外，SE 800 PV滿足SENresearch光譜橢偏儀系列的所有要求。