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磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-CKJS-450-B1
磁控濺射儀可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備...
型號： GSL-CKJS-... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

離子濺射高真空濺射

2024/12/4 10:47:504233
磁控濺射參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-CKJS-560-B2
高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備...
型號： GSL-CKJS-... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:45:592725
磁控濺射卷繞鍍膜機參考價：面議

參考價：面議型號：
磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設備采用先進的磁控濺射鍍膜技術，配備直流、射頻磁控...
型號：品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:44:212793
磁控濺射鍍膜儀參考價：面議

參考價：面議型號：GSL-1100X-SPC-16M
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物...
型號： GSL-1100X... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:42:173611
薄膜電池制備系統(tǒng) 參考價：面議

參考價：面議型號：VGB-600-3HD
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進行實驗操作，用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物...
型號： VGB-600-3... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:39:552355
雙靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-2HD-1000
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜...
型號： VTC-600-2... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:38:164617
單靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-1HD
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜...
型號： VTC-600-1... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:35:552755
三靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-3HD
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化...
型號： VTC-600-3... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:34:132591
雙靶磁控濺射儀參考價：面議

參考價：面議型號：VTC-600-2HD
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜...
型號： VTC-600-2... 品牌：其他品牌所在地：上海市 對比

磁控濺射磁控濺射儀

2024/12/4 10:32:382739