UNICORN × KLA聯(lián)合特裝展臺｜CIOE展臺7號館7B13，現(xiàn)場抽愛馬仕禮盒！

Filmetrics F20 單點便攜式膜厚測量儀

您是想要知道薄膜厚度、光學常數(shù)，還是想要知道材料的反射率和透過率，F(xiàn)20都能滿足您的需要。僅需花費幾分鐘完成安裝，通過USB連接電腦，設備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測量結果?；谀衬K化設計的特點，F(xiàn)20適用于各種應用。

相關應用：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、硬涂層、Parylene、抗反射層、醫(yī)療設備、OLED、玻璃厚度、ITO與其他TCO。

Filmetrics F40 薄膜測量儀

結合顯微鏡的膜厚測量系統(tǒng)，Filmetrics的特殊膜厚測量系統(tǒng)讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學常數(shù),通過分析待測膜層的上下界面間反射光譜，幾秒鐘內(nèi)就可得到測量結果。

相關應用：光刻膠、半導體制造、聚合物/聚對二甲苯、生物醫(yī)學元件、MEMS微機電系統(tǒng)、盒厚、氧化物/氮化物、硅或其他半導體膜層、生物膜/氣泡墻厚度、植入藥物凃?qū)印?/span>硅膜、氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡、聚酰亞胺、ITO導電透明膜。

Filmetrics F50 自動Mapping膜厚測量儀

自動化薄膜厚度繪圖系統(tǒng)，依靠F50特殊的光譜測量系統(tǒng)，可以非常簡單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ 極坐標移動平臺，可以非常快速地定位所需測試的點并且實時獲得測試厚度，大約每秒能測試兩點。F50系統(tǒng)配置高精度長壽命的移動平臺，力求實現(xiàn)上百萬次的測量。

相關應用：半導體制造 LCD液晶顯示器、光刻膠、聚酰亞胺、氧化物/氮化物/SOI、ITO透明導電膜、晶圓背面研磨、光學鍍層 MEMS微機電系統(tǒng)、硬涂層、光刻膠、抗反射層、硅系膜層。

KLA Zeta-20 白光共聚焦輪廓儀

多功能光學測試模組，Zeta-20提供多種光學測試技術滿足用戶各種領域測試需求。基于ZDot技術，Zeta-20可以對近乎所有材料和結構進行成像分析，從超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。

相關應用：徽流體器件、IC晶圓表面、MEMS器件、徽齒輪/微杺械、激光打孔、磁盤倒邊。

KLA iMicro 納米力學測試儀

靈活易用的力學測試可廣泛用于各種材料和應用，iMicro 為壓痕、 硬度、 劃痕測試和多元化納米級測試等納米級力學測試設計。 iMicro 具有多量程加載驅(qū)動器， 實現(xiàn)在寬泛的荷載和位移的范圍內(nèi)進行測量。

相關應用：硬涂層、陶瓷和玻璃、金屬和合金、復合材料、涂料和油漆、醫(yī)藥器械、半導體、電池與儲能材料、汽車和航空航天

Profilm3D 白光干涉輪廓儀

Profilm3D 使用垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術。以強大的性價比實現(xiàn)次納米級的表面形貌研究。

相關應用：粗糙度測量;三維形貌表征;臺階高度測量

FS-1 多波長橢偏儀

Film Sense FS-1多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現(xiàn)可靠地薄膜測量。

相關應用：二氧化硅和氮化物，高介電和低介電材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻膠。高和低指數(shù)薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有機薄 膜（OLED 技術）等