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反射膜厚儀

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產(chǎn)品型號MProbe NIR

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時間:2023-05-22 17:02:09瀏覽次數(shù):428次

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產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,制藥
反射膜厚儀
采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應(yīng)用領(lǐng)域,比如在可見光范圍內(nèi)有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。

產(chǎn)品品牌:Semiconsoft

產(chǎn)品型號:MProbe NIR

產(chǎn)品描述:采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應(yīng)用領(lǐng)域。

反射膜厚儀

產(chǎn)品概述

采用近紅外光譜(NIR)的測厚儀可以用于測量一些可見光和紫外光無法使用的應(yīng)用領(lǐng)域,比如在可見光范圍內(nèi)有吸收的太陽能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的測量。

測量范圍: 100 nm -200um

波長范圍: 900 nm -2500 nm

適用于實(shí)時在線測量,多層測量,非均勻涂層, 軟件包含大量材料庫(超過500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等

測量指標(biāo):薄膜厚度,光學(xué)常數(shù)

界面友好: 一鍵式測量和分析。

實(shí)用的工具:曲線擬合和靈敏度分析,背景和變形校正,連接層和材料,多樣品測量,動態(tài)測量和產(chǎn)線批量處理。

(MProble NIR薄膜測厚儀系統(tǒng)示 )

案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的測量


硅晶圓反射率,測量時間10ms


使用Tauc-Lorentz模型,測量SiN薄膜的n和k值





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