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當(dāng)前位置:上海富瞻環(huán)??萍加邢薰?/a>>>物理特性?xún)x器>>試驗(yàn)機(jī)>> 工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP
參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌Bruker/布魯克
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
更新時(shí)間:2024-05-22 18:54:09瀏覽次數(shù):278次
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工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP
產(chǎn)地類(lèi)別:進(jìn)口
儀器種類(lèi):多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)
儀器尺寸:394mm(寬)x 610mm(深)x 775mm(高)
最大摩擦力:200N
摩擦力分辨率:10mN
最高溫度:1000℃
TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 (Bruker CP-4) 超過(guò) 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí),為業(yè)界的 TriboLab 平臺(tái)帶來(lái)了一套完整的功能?;诒咎自O(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測(cè)試。TriboLab CMP 是市場(chǎng)上能夠提供廣泛的拋光壓力 (0.05-50 psi)、速度(1 至 500 rpm)、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測(cè)量的工藝開(kāi)發(fā)工具,可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。
布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專(zhuān)為晶圓拋光工藝而設(shè)計(jì),是具有可靠、靈活和高效的臺(tái)式設(shè)備。
重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件,無(wú)需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)
提供的測(cè)量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測(cè)
允許在小樣品上進(jìn)行測(cè)試,比全晶圓測(cè)試節(jié)省大量成本
比市場(chǎng)上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過(guò)程的參數(shù)
從接觸拋光盤(pán)開(kāi)始直至整個(gè)測(cè)試過(guò)程都能收集數(shù)據(jù)
通過(guò)更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)早期流程開(kāi)發(fā)決策
拋光任何平面材料,幾乎能使用任何修正盤(pán),任何拋光液,和任何拋光墊
輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
可同時(shí)安裝多個(gè)樣品,測(cè)試更靈活
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