上海富瞻環(huán)??萍加邢薰?
初級(jí)會(huì)員 | 第8年

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工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品       牌Bruker/布魯克

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時(shí)間:2024-05-22 18:54:09瀏覽次數(shù):278次

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產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 儀器種類(lèi) 多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)
工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP
TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 (Bruker CP-4) 超過(guò) 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí),為業(yè)界的 TriboLab 平臺(tái)帶來(lái)了一套完整的功能。基于本套設(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測(cè)試。TriboLab CMP 是市場(chǎng)上能夠提供廣泛的拋光壓力 (0.05-50 psi)

工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP


產(chǎn)地類(lèi)別:進(jìn)口

儀器種類(lèi):多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)

儀器尺寸:394mm(寬)x 610mm(深)x 775mm(高)

最大摩擦力:200N

摩擦力分辨率:10mN

最高溫度:1000℃

產(chǎn)品介紹

TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 (Bruker CP-4) 超過(guò) 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí),為業(yè)界的 TriboLab 平臺(tái)帶來(lái)了一套完整的功能?;诒咎自O(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測(cè)試。TriboLab CMP 是市場(chǎng)上能夠提供廣泛的拋光壓力 (0.05-50 psi)、速度(1 至 500 rpm)、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測(cè)量的工藝開(kāi)發(fā)工具,可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。


用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專(zhuān)業(yè)系統(tǒng)

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專(zhuān)為晶圓拋光工藝而設(shè)計(jì),是具有可靠、靈活和高效的臺(tái)式設(shè)備。

  • 重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件,無(wú)需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)

  • 提供的測(cè)量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測(cè)

  • 允許在小樣品上進(jìn)行測(cè)試,比全晶圓測(cè)試節(jié)省大量成本





板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過(guò)程


  • 比市場(chǎng)上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過(guò)程的參數(shù)

  • 從接觸拋光盤(pán)開(kāi)始直至整個(gè)測(cè)試過(guò)程都能收集數(shù)據(jù)

  • 通過(guò)更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)早期流程開(kāi)發(fā)決策


具有靈活的樣品類(lèi)型、尺寸和安裝配置

  • 拋光任何平面材料,幾乎能使用任何修正盤(pán),任何拋光液,和任何拋光墊

  • 輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓

  • 可同時(shí)安裝多個(gè)樣品,測(cè)試更靈活

工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP

工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP

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