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PHI X-tool 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀

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具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌ULVAC-PHI

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

更新時間:2024-11-05 14:02:33瀏覽次數(shù):163次

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產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合
PHI X-tool 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀
一束高能初級離子轟擊樣品表面激發(fā)出原子和分子碎片
只一小部分激發(fā)出的粒子以離子的狀態(tài)離開表面,被質(zhì)量分析器探測出來
對于無機材料, 原子離子百分含量> 10%

PHI X-tool 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀


產(chǎn)品特點

一束高能初級離子轟擊樣品表面激發(fā)出原子和分子碎片
只一小部分激發(fā)出的粒子以離子的狀態(tài)離開表面,被質(zhì)量分析器探測出來
對于無機材料, 原子離子百分含量> 10%

詳細介紹


產(chǎn)品介紹:

一束高能初級離子轟擊樣品表面激發(fā)出原子和分子碎片
只一小部分激發(fā)出的粒子以離子的狀態(tài)離開表面,被質(zhì)量分析器探測出來
對于無機材料, 原子離子百分含量> 10%


Excitation Process激發(fā)過程

離子產(chǎn)生和表面靈敏度

一束高能初級離子轟擊樣品表面激發(fā)出原子和分子碎片 

只一小部分激發(fā)出的粒子以離子的狀態(tài)離開表面,被質(zhì)量分析器探測出來

對于無機材料, 原子離子百分含量> 10%

對于有機材料,原子和分子離子碎片百分含量可以從 .001% 到 1%

只從表面2個分子層激發(fā)出的粒子可以以離子態(tài)離開表面



TOF-SIMS 主要功能

采集離子質(zhì)譜圖用于表面元素(原子離子),同位素,分子化學(xué)結(jié)構(gòu)(通過分子離子碎片)的表征

點或面掃描(2D成像)得到成分分布像,觀察不同成分在同一條線或面的分布情況

深度剖析和3D成像可以分析不同的膜層結(jié)構(gòu)和成分深度分布信息:多層膜層結(jié)構(gòu)表征,成分摻雜深度,擴散,吸附等表征


應(yīng)用實例:

TOF-SIMS 主要信息
  • 所有元素探測– H, He, Li, etc. (H~U)

  • 同位素的探測 – 2H, 3H, He, Li, 18O, 13C, etc.

  • 詳細的分子信息 – 有機和無機

  • 分子成像 

  • 平行探測–圖像中每一像素點都有對應(yīng)的全質(zhì)譜

  • 表面靈敏 – 樣品表面 1-3 個原子 /分子層

  • 痕量分析靈敏度高 – 0.1 到 1 ppm 原子濃度

  • 快速數(shù)據(jù)采集 – 通常 1 – 15 分鐘 (表面 IMS)

  • 高空間分辨率

  • < 70 nm (成像模式下)

  • < 0.5 µm  (保持較好質(zhì)量分辨率下)

  •  表面物理形貌信息 

  •  離子擊發(fā)出的 SEI (二次電子像) < 60 nm

  •  大的立體接收角 ~ 180o

  • 可分析所有材料 – 導(dǎo)體,半導(dǎo)體和絕緣材料




技術(shù)參數(shù):


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