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HBN薄膜，多層氮化硼薄膜，鎳基底

中文名稱：多層氮化硼薄膜（鎳基），HBN薄膜

英文名稱：Multilayer boron nitride film（HBN） on Ni

CAS號(hào)：7440-42-8

覆蓋率：100%

基底：鎳基

層數(shù)：5-15層

應(yīng)用：HBN薄膜可被用作金屬絕緣金屬結(jié)構(gòu)的超薄間隔層，以及電子的隧道阻擋層，使其具有廣泛的應(yīng)用，例如納米電容器、場(chǎng)效應(yīng)隧道晶體管。

保存條件：常溫干燥避光密封保存

HBN薄膜，多層氮化硼薄膜，鎳基底

多層氮化硼薄膜（鎳基）通常指的是在鎳基底上制備的多層氮化硼（h-BN）薄膜。氮化硼是由硼和氮原子組成的二維結(jié)構(gòu)材料，與單層氮化硼相比，多層氮化硼可能包含多個(gè)堆疊的層次。

在制備多層氮化硼薄膜時(shí)，常用的方法之一是通過(guò)化學(xué)氣相沉積（CVD）等技術(shù)，在鎳基底上沉積多層氮化硼材料。這樣的薄膜結(jié)構(gòu)可以在各種應(yīng)用中發(fā)揮作用，如電子器件、熱導(dǎo)材料、潤(rùn)滑材料等。

HBN薄膜通常在一些特殊應(yīng)用中得到利用，例如在高溫環(huán)境下的絕緣層、熱導(dǎo)率優(yōu)異的應(yīng)用場(chǎng)景等。

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以上資料來(lái)自西安昊然生物小編JMY 2024.1.22.         

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