1. 產(chǎn)品概述

電子束蒸發(fā)鍍膜機E-Beam

系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成。

2. 設備用途

本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源，可滿足在Al，Ni，Ag，Pt，Pd，Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。

3. 技術參數(shù)

真空室尺寸：定制

極限真空度：≤6.0E-5Pa                    

沉積源：6個40cc坩堝                  

溫度：最高300℃

電控描述：全自動

工藝：片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%

特色參數(shù)：樣品尺寸及數(shù)量可定制，工件架有拱形基片架和行星形基片架

4. 企業(yè)簡介

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。